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tertiefen aufgelistet. An der Oberfläche der CIGS-Schicht, also vor dem ersten Sputterschritt,<br />
beträgt der CGI 34 %. Dies entspricht der kupferarmen 158-Phase. Bereits nach wenigen Sputterschritten<br />
(hier nicht gezeigt) steigt der CGI auf über 90 % an und bleibt auf diesem Wert. Ein<br />
CGI von 100 % entspräche der stöchiometrischen Cu(In,Ga)Se 2 Phase. In Abbildung 5.9 sind die<br />
zugehörigen Detailspektren des Valenzbandes gezeigt. Es fällt auf, dass das Minimum bei 3 eV<br />
für die kupferarme Oberflächenphase ausgeprägter ist, als für die Phase im Volumen des CIGS.<br />
In Abbildung 5.10 ist der Verlauf der Bandlücke innerhalb einer CIGS-Schicht dargestellt. Die<br />
Bandlücke wurde hierbei aus dem Galliumgehalt des in Abbildung 5.8 gezeigten Sputtertiefenprofils<br />
und Gleichung (2.21) bestimmt. Die Bandlücke steigt an der Oberfläche des CIGS innerhalb<br />
von 100 nm auf ihren Maximalwert von 1.3 eV an. Danach verringert sich die Bandlücke<br />
wieder, bis sie bei einer Schichtdicke von ca. 0.5 µm ein Minimum von 1.18 eV erreicht. Zum<br />
Rückkontakt hin steigt die Bandlücke nun wieder gleichmäßig bis auf einen Wert von 1.22 eV<br />
an. Daraus ergibt sich für die gesamte CIGS-Schicht eine mittlere Bandlücke von 1.22 eV, wobei<br />
im Bereich der Grenzfläche zum Puffermaterial ein relativ steiler Gradient vorliegt, während die<br />
Schicht dahinter einen sehr flachen Verlauf aufweist. Hierbei wurde die Bandlücke der kupferarmen<br />
Oberflächenschicht von 1.3 eV [202] in den ersten Nanometern der CIGS-Schicht nicht<br />
berücksichtigt.<br />
1.30<br />
1.28<br />
1.26<br />
Abbildung 5.10: Aus der Galliumkonzentration<br />
berechneter Bandlückenverlauf<br />
einer CIGS-Schicht in<br />
Abhängigkeit der Schichtdicke. Die<br />
erhöhte Bandlücke der kupferarmen<br />
Oberflächenschicht wurde nicht<br />
berücksichtigt.<br />
Bandlücke [eV]<br />
1.24<br />
1.22<br />
1.20<br />
1.18<br />
1.16<br />
1.14<br />
0.0<br />
0.5<br />
1.0<br />
1.5<br />
Schichtdicke [µm]<br />
2.0<br />
Beim Vergleich der aus dieser Messung erhaltenen Daten mit Daten aus anderen Messmethoden,<br />
die in dem Artikel von Abou-Ras et al. zusammen gestellt wurden [203], fällt auf, dass<br />
bei den hier betrachteten Proben der Galliumgradient zum Frontkontakt hin steiler ist. Das in<br />
dieser Arbeit beobachtete maximale Gallium zu Gallium + Indium Verhältnis (GGI) beträgt 0.4<br />
und der integrale GGI 0.35. In der Arbeit von Abou-Ras et al. liegt der GGI zwischen 0.32 und<br />
0.4 (je nach Messmethode). Hierbei wird ein integraler GGI von 0.36 für XPS und ein integraler<br />
GGI von 0.35 für XRF (X-ray fluorescence) bestimmt [203]. Die integralen GGIs stimmen somit<br />
gut überein, der Galliumgradient ist bei den in dieser Arbeit betrachteten Proben aber etwas<br />
ausgeprägter als der von den Proben von Abou-Ras et al.<br />
In Abbildung 5.11 ist das Konzentrationsprofil (links) und der Verlauf des Auger Parameters<br />
(rechts), der Probe RF-ZnO 0.8 S 0.2 (9185638), gezeigt. Die entsprechenden Schwefelgehalte sind<br />
im Graph rechts angegeben. Die Sauerstoff- und die Schwefelkonzentration zeigen innerhalb<br />
76 5 Röntgen-Photoelektronenspektroskopie