View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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3.1 Optisches Rasternahfeldmikroskop 43<br />
Sekunde liegt, bestimmt. Nachteilig an dieser Methode ist, dass pro Messung<br />
nur eine Wellenlänge untersucht werden kann, bzw. dass die Separation von<br />
verschiedenen Wellenlängen mit nur einem Detektor nicht möglich ist.<br />
Nah- und Fernfeldmessungen<br />
In dieser Arbeit werden Messungen im Nahfeld also direkt an der Probenoberfläche<br />
bin hin zum Fernfeld 10 vorgestellt. Die Messungen im Nahfeld werden<br />
bei einem konstanten Abstand von ca. 20 nm zwischen Probe und NSOM-Spitze<br />
durchgeführt. Das Abrastern der Oberfläche führt ein Nanocube der Firma Physik<br />
Instrumente aus, der ein maximales Messfeld von 100 μm × 100 μm ermöglicht.<br />
Typischerweise werden allerdings Messfelder in der Größe von 10 μm × 10 μm<br />
mit 300 × 300 Pixel untersucht, da sich diese Größe als geeignet für die zu untersuchenden<br />
Strukturen heraus gestellt hat. Hierbei ist insbesondere die Messzeit<br />
eine limitierende Größe. Messungen, die mehrere Stunden oder sogar Tage dauern,<br />
setzen ein sehr stabiles System voraus. Das in dieser Arbeit verwendete<br />
NSOM erweist sich als äußerst stabil, so können auch längere Messreihen durchgeführt<br />
werden. Trotzdem kann bereits eine kleine Verkippung der Probe bei<br />
einem großen Messfeld zu einem erheblich Höhenunterschied führen, der nicht<br />
entsprechend durch den z-Piezo ausgeglichen werden kann. Es könnte dadurch<br />
zur Zerstörung der Spitze kommen. Ein mosaikartiges Zusammensetzen kleinerer<br />
Messfelder umgeht dieses Problem. Des Weiteren können damit große Messfelder<br />
mit einer hohen Auflösung zusammen gestellt werden. Diese sind insbesondere<br />
bei der Auswertung von Streuanteilen mittels Fourieranalyse interessant, da ein<br />
hohes Auflösungsvermögen im Frequenzraum nur durch ein ausreichend großes<br />
Messfeld erreicht wird. Nichtsdestotrotz ist eine angepasste Messdauer allgemein<br />
wünschenswert. Hierzu gehört die simultane Vermessung bei mehreren Wellenlängen,<br />
die in diesem Zusammenhang eine wichtige Weiterentwicklung des<br />
Mikroskops ist. Zum einen wird die Messzeit erheblich verkürzt, da die Messung<br />
nicht für jede Wellenlänge separat durchgeführt werden muss, und zum anderen<br />
sind die Messungen verschiedener Wellenlängen direkt vergleichbar.<br />
Die Ergebnisse dieser Arbeit sollen u.a. eine Grundlage für Simulationen sein.<br />
Dazu muss die Energiedichteverteilung des elektrischen Felds durch NSOM-<br />
Messungen sowohl an der Probenoberfläche als auch im Fernfeld bestimmt<br />
werden, um diese mit Simulationsergebnissen vergleichen zu können. An der<br />
Probenoberfläche im Nahfeld beginnend wird die NSOM-Messung im gleichen<br />
Messfeld wiederholt. Bei jeder Wiederholung vergrößert der Nanocube den Abstand<br />
zwischen Oberfläche und NSOM-Spitze. Die erste Messung ist zunächst<br />
eine übliche Nahfeldmessung und die Abstandsregelung arbeitet im CDM. In den<br />
darauf folgenden Messungen versucht die Abstandsreglung durch den z-Piezo<br />
die Abstandsvergrößerung durch den Nanocube auszugleichen. Sobald dies nicht<br />
mehr möglich ist, verharrt der z-Piezo auf einer konstanten Position und die Ab-<br />
10 Abstand zwischen NSOM-Spitze und Oberfläche beträgt einige Mikrometer.