View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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3.3 Probenpräparation / -aufbau 51<br />
ZnO:Al Deposition wird gewährleistet, dass die erneute Deposition die Oberflächenstruktur<br />
nicht signifikant ändert. In Abb. 3.9 sind exemplarisch zwei<br />
AFM-Messung gegenüber gestellt, die dasselbe Messfeld einer 70 s geätzten<br />
ZnO:Al-Oberfläche vor und nach der zweiten Deposition zeigen. Beide AFM-<br />
Messungen liefern ein nahezu identisches Abbild der Oberflächenstruktur. Damit<br />
ist gezeigt, dass durch die zweite Deposition keine signifikante Änderung der<br />
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(a)<br />
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(c)<br />
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(b)<br />
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Abbildung 3.9: (a) AFM-Topographie einer 70 s geätzten ZnO:Al-Oberfläche; (b) AFM-<br />
Topographie nach erneuter Deposition von ZnO:Al. Die Größe des<br />
Messfelds beträgt 30 μm × 30 μm. (c) 3D-Darstellung einer hochauflösenden<br />
AFM-Messung der in (b) markierten Kraterstruktur. Auf dem<br />
Glassubstrat bildet sich im Kraterinneren eine raue ZnO:Al-Oberfläche<br />
aus.<br />
Topographie stattfindet. Jedoch ist im Kraterinneren eine raue ZnO:Al-Oberfläche<br />
zu erkennen (Abb. 3.9(c)). Diese raue Struktur ist überall dort zu finden, wo<br />
das TCO bis auf das Glassubstrat weggeätzt wurde. Damit weicht sie von einer<br />
glatten Struktur im Kraterinneren, die durch eine ideale Auffüllung der Krater
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