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View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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88 Kapitel 6: Nahfeldeffekte in Dünnschichtsolarzellen<br />

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(a)<br />

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Abbildung 6.5: Ergebnisse aus FDTD-Simulationen an einem Schichtsystem bestehend<br />

aus einem Glassubstrat, stochastisch texturiertem ZnO:Al und einer in<br />

der Dicke variierenden a-Si:H-Schicht. Gezeigt ist ein Querschnitt einer<br />

Kraterstruktur bei den Wellenlängen 658 nm (erste Zeile) und 780 nm<br />

(zweite Zeile) für ein System ohne a-Si:H (a), mit einer 80 nm dicken<br />

a-Si:H-Schicht (b) und mit einer 250 nm dicken a-Si:H-Schicht (c). Für den<br />

oberen Halbraum ist Luft mit einem Brechungsindex n = 1 angenommen<br />

worden. Abbildung nach [171].<br />

de an der Oberfläche sehr gut wieder. Auch die unterschiedliche Breite der Effekte<br />

in Abhängigkeit von der Wellenlänge ist zu sehen. Bereits die NSOM-Messungen<br />

zeigten, dass es zwischen den unterschiedlichen Wellenlängen und auch zwischen<br />

dem Vorhanden sein und Fehlen einer zusätzlichen a-Si:H-Schicht keine<br />

prinzipiellen Unterschiede gibt. Die Simulationen spiegeln dieses Bild deutlich<br />

wieder, dass Unterschiede maßgeblich im Detail zu beobachten sind und auf sehr<br />

lokalen Effekte beruhen. Die feine periodische Struktur ist als starke Lichtlokalisierungen<br />

an den Kraterrändern zu erkennen und unabhängig von der Existenz<br />

oder Dicke der a-Si:H-Schicht. Es ist festzustellen, dass trotz gleicher Texturierung<br />

der Oberfläche die optischen Effekte sich in ihrer Art kaum unterscheiden, aber<br />

die Intensitätsverteilungen deutliche Unterschiede aufweisen. Diese Unterschiede<br />

müssen folglich den Schichteigenschaften und der Schichtdicke zugeschrieben<br />

werden. Die Simulation ermöglicht nun die weitere Betrachtung der Lichtmoden<br />

im Inneren der Schichten [20, 171]. In der 80 nm dicken a-Si:H-Schicht können<br />

sich die Moden des langwelligen Lichts kaum ausbreiten und eine Lichtführung<br />

findet nicht statt. Im Fall einer Schichtdicke von 250 nm ist hingegen zu<br />

erkennen, dass Lichtmoden in der Schicht existieren und sich ausbreiten. Neben<br />

der Texturierung der jeweiligen Grenzschicht ist somit auch die Schichtdicke<br />

entscheidend für eine optimale Lichtführung. Damit ist festzuhalten, dass mit<br />

der Optimierung der Oberflächentextur auch eine Anpassung der Schichtdicke<br />

einhergehen muss. Hierbei ist es erforderlich, dass die beiden Randbedingungen<br />

minimale Dicke und maximale Lichtführung zusammengeführt werden, wobei<br />

die Abhängigkeit von der Wellenlänge zu berücksichtigen ist. Eine optimierte<br />

(c)<br />

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