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3.3 Probenpräparation / -aufbau 51 ZnO:Al Deposition wird gewährleistet, dass die erneute Deposition die Oberflächenstruktur nicht signifikant ändert. In Abb. 3.9 sind exemplarisch zwei AFM-Messung gegenüber gestellt, die dasselbe Messfeld einer 70 s geätzten ZnO:Al-Oberfläche vor und nach der zweiten Deposition zeigen. Beide AFM- Messungen liefern ein nahezu identisches Abbild der Oberflächenstruktur. Damit ist gezeigt, dass durch die zweite Deposition keine signifikante Änderung der �� (a) �� (c) �� (b) �� Abbildung 3.9: (a) AFM-Topographie einer 70 s geätzten ZnO:Al-Oberfläche; (b) AFM- Topographie nach erneuter Deposition von ZnO:Al. Die Größe des Messfelds beträgt 30 μm × 30 μm. (c) 3D-Darstellung einer hochauflösenden AFM-Messung der in (b) markierten Kraterstruktur. Auf dem Glassubstrat bildet sich im Kraterinneren eine raue ZnO:Al-Oberfläche aus. Topographie stattfindet. Jedoch ist im Kraterinneren eine raue ZnO:Al-Oberfläche zu erkennen (Abb. 3.9(c)). Diese raue Struktur ist überall dort zu finden, wo das TCO bis auf das Glassubstrat weggeätzt wurde. Damit weicht sie von einer glatten Struktur im Kraterinneren, die durch eine ideale Auffüllung der Krater
52 Kapitel 3: Experimentelle Methoden erreicht würde, ab. Des Weiteren werden die optischen Nahfelduntersuchungen in Kap. 6.2 zeigen, dass dieses Verfahren keine reine Auffüllung der Oberflächengestalt liefert.
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