Homoleptische Methylverbindungen von Elementen der 4. und 5 ...
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Allgemeiner Teil<br />
Die Isolierung erfolgt durch Abziehen des Lösungsmittels bei –40 °C im Hochvakuum.<br />
Der erhaltene Rückstand wurde langsam auf Raumtemperatur erwärmt,<br />
wobei wenige Milligramm reines Ta(CH 3)5 in einer Kühlfalle aufgefangen werden<br />
können. Das Produkt kann nun bei –40 °C in 1,1,1,3,3,3-Hexafluorpropan (F236)<br />
gelöst werden. Kristallbildung trat beim langsamen Abkühlen auf –78 °C ein. Die<br />
so erhaltenen blaßgelben, opaken Kristalle konnten aufgr<strong>und</strong> ihrer gros sen<br />
Empfindlichkeit nur unter großen Schwierigkeiten mit einer<br />
Nujol/Methylcyclohexan-Mischung auf einem Glasfaden montiert <strong>und</strong> auf einem<br />
Einkristalldiffraktometer bei –155 °C vermessen werden. Sobald ein Kristallfragment<br />
aus dem schützenden Innertgasstrom an die Luft gebracht wurde, kam es<br />
unter Rußentwicklung zur explosionsartigen Zersetzung.<br />
Abb. 4 Kristallstruktur <strong>von</strong> Pentamethyltantal. ORTEP-Zeichnung, Schwingungsellipsoide mit<br />
50% Aufenthaltswahrscheinlichkeit, H-Atome mit willkürlichen Radien. Die Fehlordnung <strong>der</strong><br />
apikalen Methylgruppe, erzeugt durch die vierzählige kristallographische Drehachse, ist nicht<br />
abgebildet.<br />
2.2.1 Kristallstruktur <strong>von</strong> Ta(CH3)5<br />
Während <strong>der</strong> Meßzeit <strong>der</strong> 876 Reflexe trat durch Zersetzung des Kristalls eine<br />
Streuungsschwächung <strong>von</strong> ca. 2,5% auf. Eine empiri sche Absorptionskorrektur<br />
konnte mangels Ψ-Scan nicht erfolgen, dennoch konnte ein R-Wert <strong>von</strong> 2,3%<br />
erhalten werden.<br />
Pentamethyltantal kristallisiert in <strong>der</strong> tetragonalen Raumgruppe I <strong>4.</strong> Durch die vier-<br />
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