Kurs- und Modulkatalog Nanotechnologie 2013/14 - LNQE - Leibniz ...
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01.10.<strong>2013</strong> Teil C: Verzeichnis der <strong>Kurs</strong>beschreibungen: Master<br />
Beschichtungstechnik <strong>und</strong> Lithografie<br />
Deposition Technology and Lithography<br />
Dozent: Rissing<br />
E-Mail: rissing@impt.uni-hannover.de<br />
Ziel des <strong>Kurs</strong>es:<br />
Ziel der Vorlesung ist die Vermittlung eines physikalischen <strong>und</strong> chemischen Gr<strong>und</strong>verständnisses der in der Mikro<strong>und</strong><br />
<strong>Nanotechnologie</strong> zum Einsatz kommenden Prozesse sowie deren mathematische Beschreibung. Dargestellt<br />
werden physikalische (PVD) <strong>und</strong> chemische (CVD) Wachstumsprozesse dünner Schichten, Analysetechniken sowie<br />
optische Gr<strong>und</strong>lagen der Fotolithografie.<br />
Inhalt:<br />
- Gr<strong>und</strong>lagen der Materialwissenschaften: Kristallstruktur <strong>und</strong> Wachstum dünner Schichten<br />
- Vakuumtechnologie: Viskoser <strong>und</strong> molekularer Gastransport im technischen Vakuum<br />
- Atomarer Filmniederschlag: Thermodynamische Gr<strong>und</strong>lagen der physikalischen (PVD) <strong>und</strong><br />
chemischen<br />
(CVD) Deposition von Filmen aus der Dampfphase<br />
- Charakterisierung dünner Schichten<br />
- Lithografie: Optische Gr<strong>und</strong>lagen, Fresnelbeugung bei Kontakt- <strong>und</strong> Proximitybelichtung,<br />
Fraunhoferbeugung bei Projektionsbelichtung, Chemie von Fotolacken, Einführung in der<br />
Elektronenstrahllithographie<br />
Empfohlene Vorkenntnisse:<br />
Vorlesung Mikro- <strong>und</strong> <strong>Nanotechnologie</strong><br />
Voraussetzungen:<br />
---<br />
Literaturempfehlung:<br />
Vorlesungsskript. Ohring: The Material Science of Thin Films, Academic Press, San Diego<br />
1992. Thompson et al.: Introduction into Microlithography, 2 nd Edition, American Chemical<br />
Society, Washington DC 1994.<br />
Besonderheiten:<br />
---<br />
Präsenzstudienzeit: 32h<br />
Selbststudienzeit: 88h<br />
Art der Prüfung: mündlich<br />
Studienleistung:<br />
V2/Ü1<br />
LP: 4<br />
WS<br />
Empfohlen ab dem: 1. Semester<br />
Seite 97
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