A MAGYAR TUDOMÃNYOS AKADÃMIA ... - MTA Sztaki
A MAGYAR TUDOMÃNYOS AKADÃMIA ... - MTA Sztaki
A MAGYAR TUDOMÃNYOS AKADÃMIA ... - MTA Sztaki
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
Lézerfény és szilárd anyag – főként nemlineáris – kölcsönhatásai<br />
Elméletek: Saját elméleti modelljük segítségével előre jelezték a felületi plazmonok bomlása<br />
során a keltő lézerfénytől nemlineárisan függő emittált fény térbeli eloszlásában jelentkező<br />
éles iránymaximumot, valamint e fény kvantumstatisztikai tulajdonságait. Megadták az<br />
egyfotonos kísérletekben észlelhető kvantum-, ill. klasszikus korrelációk egységes leírását. Új<br />
módszert dolgoztak ki extrém rövid fotoelektron-impulzusuk térbeli, időbeli és spektrális<br />
alakítására, mely az ultrarövid fázisstabilizált lézerimpulzusokkal és felületi plazmonokkal<br />
való kölcsönhatáson alapul, így az elektronimpulzusokkal végzendő kísérletekhez egyedülálló<br />
módszert kaptak. Előre jelezték a lézerrel keltett fotoelektronok de Broglie-hullámainak<br />
interferenciája révén keletkező attoszekundumos (10 -18 s) időtartamú elektronimpulzusok<br />
előállításának lehetőségét. A kvantum-informatikában kulcsfontosságú elektron-foton<br />
összefonódottság általuk felfedezett típusának leírását végezték el.<br />
Kísérletek: Unikális titán-zafír lézeroszcillátor rendszert építettek, mellyel felületi<br />
plazmonokat keltve e lézerénél négy nagyságrenddel magasabb, igen intenzív fénysugárzást<br />
nyertek. Ennek segítségével a lézerindukált plazmonok dinamikájában új jelenségeket tártak<br />
fel: a plazmonbomlás lézerintenzitással nemlineárisan változó fényének irányeloszlásában<br />
éles maximumot találtak és kimérték e fény igen széles spektrumát továbbá klasszikus és<br />
kvantumstatisztikai paramétereit, elméleti munkáikban ismertetett előrejelzéseikkel<br />
összhangban.<br />
Résztvevők: 6 kutató valamennyien az SZFKI munkatársai. Anyagi ráfordítás: 33,6 M Ft<br />
költségvetési támogatás, 5,6 M Ft hazai pályázatok.<br />
Gázlézerek és gázkisülések<br />
Az <strong>MTA</strong> MFA-val kooperálva, GVOP támogatással befejezték egy új típusú optikai<br />
reflektométer kifejlesztését. Atmoszférikus nyomású kisülésben (ELCAD), a mért adatokból<br />
meghatározták az elektronok és a pozitív ionok sűrűségét a kisülés különböző helyein.<br />
Igazolták a kisülés “negatív fény” nevű tartományában a közel termikus elektronpopuláció<br />
jelenlétét. Erősen csatolt szimpla és kettős rétegek tanulmányozása során fény derült a<br />
rendszerek dinamikus (hullámterjedéssel kapcsolatos) és olvadási tulajdonságainak<br />
részleteire. Kísérleti berendezést állítottak össze a plazmakristályok megfigyelése céljából.<br />
Ezzel a kísérlettel a számítógépes szimulációk terén elért eredményeiket kívánják igazolni.<br />
Résztvevők: 11 kutató, ebből 9 az SZFKI munkatársa. Anyagi ráfordítás: 50,4 M Ft<br />
költségvetési támogatás, 10,6 M Ft hazai pályázatok, 48 e€ nemzetközi pályázatok.<br />
Lézeralkalmazások, amorf vékonyrétegek<br />
Optikai méréstechnika: Optimalizálták az új elven működő előre programozott fotonszámú<br />
kvantum-optikai fényforrás optikai paramétereit és generálási statisztikáját. Megvizsgálták a<br />
létrehozott eszköz alkalmazási lehetőségeit a kvantumoptikai méréstechnikában. Megmérték a<br />
felületi plazmonok időbeli statisztikai paramétereit kis és nagy gerjesztő intenzitások esetén,<br />
elemezték a gerjesztési és rekombinációs folyamatok linearitását. Továbbfejlesztették a mobil<br />
környezetvédelmi laboratórium műszerparkját. Az általuk kifejlesztett kéthullámhosszú<br />
négydetektoros aeroszol spektrométert összemérték az amerikai TSI cég műszereivel és a<br />
mérési eredmények alapján átalakítottak néhány részegységet. Létrehoztak egy új elven<br />
működő gyors (25 ps-os) fotonkorrelátort, amely számos méréstechnikai területen<br />
alkalmazható. Az általuk megvalósított fejlesztés új távlatokat nyitott az on-line, in-situ és<br />
érintésmentes fotonkorrelációs méréstechnika területén. A berendezés érzékenysége, az<br />
199