A MAGYAR TUDOMÃNYOS AKADÃMIA ... - MTA Sztaki
A MAGYAR TUDOMÃNYOS AKADÃMIA ... - MTA Sztaki
A MAGYAR TUDOMÃNYOS AKADÃMIA ... - MTA Sztaki
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
alkalmazott kvantum limitált detektálás és legmodernebb DSP (digital signal processor)<br />
vezérelt adatfeldolgozás következtében 1 nagyságrenddel növelte az érzékenységi küszöböt és<br />
így az 50–400 nm méretű részecskék méretének és sebességének meghatározására nyílik<br />
lehetőség. Folytatták a korábban elméletileg kidolgozott eljárás alkalmazását az aeroszol<br />
minta fő statisztikus jellemzőinek kiértékelésére egy megfelelően kiválasztott lézer impulzus<br />
sorozatra adott szórt impulzussor amplitúdó és idő-amplitúdó eloszlásának mérésével. A<br />
projekt keretén belül olyan új, komplex többcsatornás mérésadatgyűjtő és kiértékelő rendszert<br />
hoztak létre, amely alkalmas az amplitúdó-, és az időinformáció egyidejű feldolgozására<br />
Amorf szén vékonyrétegek: 60–2250 nm rétegvastagságú lágy a-C:H filmeken egy sor új<br />
jelenséget vizsgáltak meg. Releváns különbségeket figyeltek meg a beteg és egészséges<br />
biológiai minták Raman spektrumaiban. Folytatták a koszorúér-tágító sztentek bio-, és<br />
haemokompatibilitásának vizsgálatát és védőréteggel történő DLC bevonását. Erre a célra egy<br />
célberendezést hoztak létre. Vizsgálták az új DLC bevonatok homogenitását, öregedési<br />
tulajdonságait a kompaktság és a felülethez való tapadás tekintetében.<br />
Résztvevők: 16 kutató, valamennyien az SZFKI munkatársai. Anyagi ráfordítás: 89,6 M Ft<br />
költségvetési támogatás, 43,5 M Ft hazai pályázatok.<br />
Femtoszekundumos lézertechnika és optikai vékonyrétegek<br />
Az optikai vékonyréteg-analógia alapján egydimenziós analitikus módszert dolgoztak ki<br />
fotonikus kristály optikai szerkezetek modellezésére, tervezésére. A Furukawa Electronic<br />
Technológia Intézet (FETI) munkatársainak segítségével az egy dimenziós modell alapján<br />
kapott eredményeiket összehasonlították a lényegesen számításigényesebb, végeselem<br />
módszeren alapuló 2D modell eredményeivel. Azt találták, hogy a modellparaméterek<br />
(effektív törésmutató profil, effektív „kritikus beesési szög” stb.) megfelelő megválasztása<br />
esetén az 1D modell megfelelő pontosan írja le a fotonikus kristályok spektrális<br />
tulajdonságait, és a hullámvezetésből adódó diszperziót leszámítva megfelelően írja le az<br />
adott szerkezet alapvető diszperziós tulajdonságait. A módszert eredményesen alkalmazták<br />
mind szélessávú, üreges szerkezetű fotonikus kristály szálak tervezésére, mind üreges Bragg<br />
szálak diszperziós tulajdonságainak módosítására. Az így megtervezett szálak előnyösen<br />
alkalmazhatóak mind a most elterjedten használt, széles sávban hangolható<br />
femtoszekundumos fényforrásokat alkalmazó mérőberendezések (pl. kétfotonos gerjesztésen<br />
alapuló mikro-endoszkópok esetében), mind a femtoszekundumos lézerforrások új<br />
generációját jelentő femtoszekundumos szállézerek és szálerősítők esetében. Jelenleg ez<br />
utóbbi technológián alapuló femtoszekundumos lézer fényforrások fejlesztésén az SZFKI, a<br />
R&D Ultrafast Lasers Kft és a Furukawa Electronic Technológiai Intézet alkotta ipari<br />
konzorcium dolgozik.<br />
Nanoszkópikus fém- és/vagy dielektrikum rétegeket tartalmazó nagy sávszélességű és kis<br />
diszperziójú antireflexiós bevonatokat, nyalábosztó bevonatokat, dikroikus tükröket, kicsatoló<br />
tükröket és spektrális szűrőket állítottak elő femtoszekundumos időtartományú lézeroptikai<br />
alkalmazásokhoz. A femtoszekundumos lézertechnológiában alkalmazható nagy sávszélességű<br />
és kis diszperziójú frontpolarizátor bevonatokat fejlesztettek ki a spektrum UV, VIS és IR<br />
tartományaira. Új típusú trikroikus polarizációs osztóbevonatot fejlesztettek ki a spektrum<br />
látható tartományára, amellyel jó hatásfokkal választhatók szét a merőleges polarizációs<br />
komponensek egyidejűleg három diszkrét hullámhossz sávban (kék, zöld, piros), 45 fokos<br />
fénybeesésénél. Az új trikroikus polarizátor bevonat elsősorban háromdimenziós információmegjelenítési<br />
technológiákban alkalmazható.<br />
200