View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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4-45<br />
4.5 Chemische Bearbeitung und Reinigung<br />
Eine Vielzahl von Methoden zur Bearbeitung der Oberflächen wurde weltweit entwickelt, um<br />
eine möglichst glatte und saubere Oberfläche im Inneren des Resonators zu erhalten.<br />
Neben der chemischen Bearbeitung ist eine Hochdruck-Spülung mit reinem Wasser zwingend<br />
erforderlich zum Erreichen der erforderlichen Feldstärken. Zu diesem Zweck wurde eine<br />
spezielle Spüleinrichtung geplant und für den Einsatz für die HWR optimiert [Pupeter02].<br />
a) b)<br />
c)<br />
schlechter<br />
Wasserablauf<br />
schlechter<br />
Wasserablauf<br />
Abb. 4.15: Schnittbild des Halbwellenresonators (160 MHz). a) Seitenschnittbild mit den<br />
beiden Bereichen, an denen das Spülwasser schlecht ablaufen kann, b) Strahlrohrbereich<br />
und c) unten liegender Endkappenring.<br />
Mit Hilfe von drei Lanzen kann dabei jeder kritische Punkt in der Kavität erreicht und optimal<br />
behandelt werden. Zwei Lanzen fahren dabei parallel durch die Bearbeitungsöffnungen
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