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Bild: Effi cient Power Conversion<br />
Welche wirtschaftlichen Ziele haben Sie sich dieses Jahr gesetzt?<br />
Wir fertigen in einer Standard-CMOS-Foundry in Taiwan und haben<br />
so relativ niedrige Kosten. Das heißt, dass wir bereits heute in<br />
der Lage sind, pro� tabel gegen herkömmliche Leistungsmosfets in<br />
großen Stückzahlen anzutreten. Wir erwarten dieses Jahr, dass einige<br />
unserer Hauptkunden mit unseren Bausteinen in Produktion<br />
gehen, die in ihren Industriebereichen für Highlights sorgen werden.<br />
Unser wirtscha� liches Ziel ist es, diese Bausteine erfolgreich<br />
zu etablieren – was hier auch immer für Mühen nötig sein werden<br />
– und gleichzeitig einen akzeptablen Gewinn zu erzielen.<br />
Ihre Einschätzung des europäischen und amerikanischen<br />
Leistungselektronikmarkts.<br />
Der europäische und amerikanische Leistungselektronikmarkt hat<br />
sich während der letzten zehn Jahre stark verändert. Die Elektronikfertigung<br />
hat sich hauptsächlich nach Asien verlagert, allerdings<br />
bleiben die Designaktivitäten in Europa und den USA. Darum<br />
haben wir Application-Engineers, die mit den Kunden in Eu-<br />
ropa und den Staaten eng an eGaN-FET-basierten Designs mit<br />
zusätzlicher Hilfe bei Logistik und Produktion in Taiwan und China<br />
arbeiten. Darüber hinaus haben wir mit Digi-Key einen Distributor<br />
an der Hand, der es sich auf die Fahne geschrieben hat, innerhalb<br />
von 48 Stunden nach Bestellung zu liefern.<br />
China holt im Bereich Leistungselektronik auf. Sind die Chinesen<br />
bereits als ernsthafte Konkurrenz für Europa und Amerika zu sehen?<br />
Der chinesische Leistungselektronikmarkt wird dieses Jahr seine<br />
stärkste Wirtscha� srate erfahren, einmal durch den Konsum der<br />
eigenen Bevölkerung, der unterstützt wird durch den nach China<br />
verlagerten Fertigungstrend von Amerika und Europa. Ein anderer<br />
Punkt ist die wachsende Designexpertise, die es chinesischen<br />
Unternehmen erlaubt, eigene Produkte für den Export zu entwickeln.<br />
EPC hat bereits ein Netzwerk aus Verkaufs-Support und<br />
technischem Support in China und Taiwan aufgebaut, um die dor-<br />
Infoabend<br />
31.5.2011<br />
18.30 Uhr<br />
Lagerstrasse 45<br />
8004 Zürich<br />
GaN-Bausteine überzeugen im<br />
Vergleich zu ihrem Si-Pendant<br />
in drei Punkten: Sie sind leistungsfähiger,<br />
leichter einsetzbar und<br />
zuverlässiger. Einzig die Kosten sprechen<br />
noch für Si-Bausteine:<br />
Dr. Alex Lidow ist CEO und Mitgründer von EPC in<br />
El Segundo, Kalifornien.<br />
Leistungsbauteile Leistungsbauteile und Power-<br />
und Powermodule module <br />
tigen Anforderungen zu unterstützen. Im Vergleich zu unseren<br />
früheren Erfahrungen im Leistungselektronikmarkt verfügen viele<br />
chinesische und taiwanesische Ingenieure nicht nur über fachliche<br />
Expertise, sondern auch über die Motivation, moderne Technologien,<br />
wie eGaN, zu adoptieren.<br />
2011 werden China und Taiwan zusammen nach den USA unsere<br />
größte Einnahmequelle sein; 2012 könnten sie sogar die Staaten<br />
überholen. Allerdings werden Europa und die Staaten weiterhin<br />
führend sein, wenn es darum geht, die GaN-Technologie für Lösungen<br />
zu pushen, die sich mit Silizium nicht realisieren lassen.<br />
Die Themen Nachhaltigkeit und Energieeinsparung führen zur<br />
Diskussion Galliumnitrid versus Siliziumkarbid. Warum setzt EPC<br />
auf GaN anstelle von SiC?<br />
Bedingt durch den hohen Bandabstand lassen sich sowohl Galliumnitrid<br />
als auch Siliziumkarbid für Leistungstransistoren nutzen,<br />
die Leistungsmosfets und IGBTs leistungsmäßig erheblich übertre�<br />
en. GaN hat jedoch den Vorteil, dass man es auf einen großen<br />
Standard-Silizium-Wafer wachsen lassen kann. Günstigere Herstellungskosten<br />
im Vergleich zu anderen Verfahren, eine mögliche<br />
Dotierbarkeit und die auf Si-Substraten existierende, weit fortgeschrittene<br />
Mikroelektronik sprechen für GaN-on-Si. Zudem können<br />
die Wafer in hohen Stückzahlen kostengünstig in Silizium-<br />
Wafer-Fabs produziert werden, so dass sich GaN-on-Si-basierte<br />
Leistungsbausteine nicht hinter Leistungsmosfets aus Silizium verstecken<br />
brauchen. Kosten-Wettbewerbsfähigkeit ist zwar eine notwendige<br />
Bedingung, aber nicht die alles ausschlaggebende für die<br />
Entscheidung pro Wide-Bandgap-Technologien.<br />
Ist Silizium bereits am Ende seines Weges angekommen?<br />
30 Jahre Erfahrung im Umgang mit Silizium-basierten Leistungsmosfets<br />
haben uns gelehrt, dass es vier Schlüsselvariablen gibt, die<br />
Unternehmen beein� ussen, ob sie eine Technologie annehmen<br />
oder nicht:<br />
Erstens: Leistungsvermögen. Was können die neuen Bausteine<br />
besser als die herkömmlichen? eGaN-FETs sind aufgrund der ausgezeichneten<br />
Eigenscha� en von GaN schneller und haben weniger<br />
Leitungsverluste als Silizium-basierte Leistungsmosfets und IGBTs.<br />
Damit können Designer die Taktfrequenz und die Leistungsdichte<br />
ihrer Produkte erheblich steigern.<br />
Zweitens: Leichte Nutzbarkeit. Unsere eGaN-FETs funktionieren<br />
wie Si-Leistungsmosfets mit zwei Ausnahmen: Zum einen haben<br />
sie eine viel niedrigere Eingangskapazität und eine maximale<br />
Gatespannung. Dadurch bringen sie von Hause aus ein besseres<br />
Ohne Berufsmaturität an die Fachhochschule:<br />
Das Juventus-Zulassungsstudium<br />
Auch ohne Berufsmaturität ist die Aufnahme in einen der Studiengänge mit<br />
dem Ziel «Bachelor of Science» möglich. Der Weg führt über ein 9-monatiges<br />
Zulassungsstudium, dessen erfolgreicher Abschluss die Tür zur Hochschule<br />
für Technik Zürich (HSZ-T) öffnet.<br />
Ein Bildungsangebot der Juventus Gruppe<br />
www.elektronikjournal.com <strong>elektronikJOURNAL</strong> 02 / 2011 27