Untersuchung mikromagnetischer Strukturen in dünnen Schichten

3 EXPERIMENTELLER AUFBAU UND PROBENPRÄPARATION 49
berfläche zu finden, muß deshalb der SEV im Mikroskop positiv vorgespannt werden34 .
Die Linienstrukturen am linken unteren Rand sind kaum noch als solche zu erkennen,
da ihre beiden Ränder schon fast verschmelzen. Ihr Profil ist pyramidenartig.
Abbildung 20: Die Schärfe der Co/Cu(001)-Mikrostrukturen: Kontrastumschlag im SE-Bild eines
Co-Stufenkeils (links), SE-Aufnahme unscharf aufgedampfter Mikrostrukturen mit 2 ML Dicke (mitte)
und SE-Bild scharf aufgedampfter Mikrostrukturen mit 10 ML Dicke (rechts). Die waagerechten Balken
enstehen durch Schwankungen der Intensität des Primärstrahls.
Die Unschärfe der Strukturen nimmt mit zunehmendem Maskenabstand zu. In den ersten
Experimenten war zu beobachten, daß der helle Rand der Strukturen einige Mikrometer
breit war und somit auch größere Quadrate ein mehr kissenförmiges als rechteckiges
Profil aufwiesen.
Im rechten Teil von Abb. 20 ist zu sehen, daß bei richtiger Wahl des Abstandes Maske-
Probe eine definierte Abbildung der Strukturen auf die Substratoberfläche möglich ist.
Im Gegensatz zur mittleren Aufnahme ist in diesem Mikrostrukturfeld kein heller Rand
zu erkennen. Aufnahmen höherer Vergrößerung zeigen jedoch, daß eine Restunschärfe
von ca. 400 nm nicht vermieden werden kann.
34 Einige hundert Volt am SEV führen zu einer Verstärkung des Unterschiedes der Elektronenausbeu-
ten von Kobalt und Kupfer.