Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

Estabelecidas as condições de preparação das superfícies, de manutenção e
controle da temperatura, investigou-se as condições operacionais que possibilitassem
aumentar a taxa de deposição, para a obtenção de filmes mais espessos em um menor
intervalo de tempo. As primeiras tentativas para aumentar a taxa de deposição foram no
sentido de aproximar o substrato do alvo (distância de 5 a 7 cm); como resultado houve
grande variação da espessura do filme ao longo da superfície das amostras, além das
mesmas estarem mais sujeitas ao impacto e à aderência de salpicos (Figura 4.20).
FIGURA 4.20 - Fotomicrografia obtida por MEV da seção transversal de uma amostra
apresentando um salpico aderido à camada cerâmica.
Os filmes mais uniformes e com melhor acabamento superficial (Figura 4.21)
foram obtidos quando os substratos foram posicionados em uma distância de
aproximadamente 17 cm, em relação à fonte de vapor, máxima distância permitida pelas
dimensões da câmara de vácuo. Para aumentar a taxa de deposição, a solução
encontrada foi posicionar os substratos o mais próximo possível da vertical, formada
pelo feixe de elétrons, tomando-se o cuidado para que não ficassem na área de
incidência do mesmo.
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