Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

FIGURA 2.14 - Ilustração esquemática representando a chegada de átomo na superfície
de um filme.
FONTE: [41].
Modelos anteriores [39] a Yang et al [41] não levam em consideração a difusão
atômica e prevêm baixa densidade. Na prática, na maioria dos processos de deposição, a
difusão atômica ocorre simultaneamente com a deposição.
A Figura 2.15 apresenta o efeito da temperatura do substrato na
microestrutura/morfologia do filme, e considerando:
- TH = 0,22: estrutura de baixa densidade de empacotamento (0,79). Esta
estrutura é devida à geração de sombras e representa a Zona I do diagrama
de Movchan;
- TH = 0,26: densidade de empacotamento de 0,97. Os contornos de grão
abertos desaparecem e os contornos das colunas ficam mais definidos mas
a superfície ainda é muito rugosa;
- TH = 0,35: é observada uma estrutura colunar completamente densa e uma
superfície facetada típica da Zona 2. O contorno das colunas pode ser
observado com a ajuda dos traçadores;
- TH = 0,48: a superfície começa a ficar completamente plana e a largura das
colunas aumenta.
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