Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

Uma barreira energética para a adsorção de átomos ou moléculas da fase vapor é
a passivação, onde uma monocamada de determinado elemento se forma sobre a
superfície do substrato reduzindo a energia superficial.
Para a deposição em substrato que não seja o mesmo do material da fase vapor, a
nucleação é fortemente influenciada pela tensão superficial do substrato (γs). No
entanto, após a formação da primeira camada, é necessário levar em consideração tanto
a tensão superficial do substrato, quanto da interface substrato-filme (γi) e da superfície
livre do filme (γf). Os três valores são geralmente dependentes da orientação
cristalográfica e passivação [34].
Assumindo que haja suficiente difusão superficial para que ocorra o rearranjo
atômico e /ou molecular e redução da tensão superficial, isto é, que a nucleação não seja
cineticamente limitada e possa aproximar do equilíbrio (Λ>>a), existem duas condições
de nucleação no substrato livre. A primeira ocorre quando o filme molha o substrato
(Equação 2.4) permitindo um crescimento suave, camada por camada e com forte
ligação. A outra possibilidade é quando o filme não molha o substrato. Neste caso,
ocorre baixa ligação com o substrato, há formação de ilhas tridimensionais e o filme
apresenta rugosidade elevada [34], ou seja:
(γf+γi