Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

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FIGURA 4.21- Corpo de prova com revestimento cerâmico. O aumento da taxa de deposição pelo aumento da energia do feixe elétrons é limitado pela evolução de salpicos, ou seja, a potência do feixe deve ser a máxima, desde que a evolução de salpicos seja a mínima possível. Um cuidado adicional que deve ser tomado, principalmente durante a evaporação da cerâmica, é o de não permitir o surgimento de crateras nos alvos. Devemse evaporar preferencialmente as bordas para que o fluxo de vapor não seja concentrado ou “colimado” e desviado da superfície do substrato, o que reduz drasticamente a eficiência do processo (Figura 4.22). FIGURA 4.22 - Alvos cerâmicos em que ocorreram a formação de crateras. Com a otimização do processo, foi possível obter depósitos metálicos e cerâmicos espessos e com características microestruturais adequadas, ou seja, camada cerâmica com estrutura colunar e sem descontinuidades entre as diversas camadas (Figura 4.23). 132
FIGURA 4.23 - Fotomicrografia obtida por MEV da seção transversal de um sistema destacado do substrato e fraturado. 4.5 Características dos Revestimentos 4.5.1 Camada de Ligação (MCrAlY) Para garantir uma boa interação entre a camada cerâmica e o substrato foi necessário o desenvolvimento de uma camada metálica de ligação que, além de ter propriedades químicas, físicas e mecânicas adequadas, fosse possível de ser obtida no equipamento de evaporação utilizado nesse trabalho e pudesse ser oxidada superficialmente para a formação do TGO. 4.5.1.1 Microestruturas A Figura 4.24 apresenta uma micrografia da seção transversal polida de um depósito de MCrAlY, com faixas de tonalidade ao longo da camada, sugerindo a existência de um gradiente de composição química e/ou fases. 133
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