Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

FIGURA 4.21- Corpo de prova com revestimento cerâmico.
O aumento da taxa de deposição pelo aumento da energia do feixe elétrons é
limitado pela evolução de salpicos, ou seja, a potência do feixe deve ser a máxima,
desde que a evolução de salpicos seja a mínima possível.
Um cuidado adicional que deve ser tomado, principalmente durante a
evaporação da cerâmica, é o de não permitir o surgimento de crateras nos alvos. Devemse
evaporar preferencialmente as bordas para que o fluxo de vapor não seja concentrado
ou “colimado” e desviado da superfície do substrato, o que reduz drasticamente a
eficiência do processo (Figura 4.22).
FIGURA 4.22 - Alvos cerâmicos em que ocorreram a formação de crateras.
Com a otimização do processo, foi possível obter depósitos metálicos e
cerâmicos espessos e com características microestruturais adequadas, ou seja, camada
cerâmica com estrutura colunar e sem descontinuidades entre as diversas camadas
(Figura 4.23).
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