Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

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FIGURA 2.14 - Ilustração esquemática representando a chegada de átomo na superfície de um filme. FONTE: [41]. Modelos anteriores [39] a Yang et al [41] não levam em consideração a difusão atômica e prevêm baixa densidade. Na prática, na maioria dos processos de deposição, a difusão atômica ocorre simultaneamente com a deposição. A Figura 2.15 apresenta o efeito da temperatura do substrato na microestrutura/morfologia do filme, e considerando: - TH = 0,22: estrutura de baixa densidade de empacotamento (0,79). Esta estrutura é devida à geração de sombras e representa a Zona I do diagrama de Movchan; - TH = 0,26: densidade de empacotamento de 0,97. Os contornos de grão abertos desaparecem e os contornos das colunas ficam mais definidos mas a superfície ainda é muito rugosa; - TH = 0,35: é observada uma estrutura colunar completamente densa e uma superfície facetada típica da Zona 2. O contorno das colunas pode ser observado com a ajuda dos traçadores; - TH = 0,48: a superfície começa a ficar completamente plana e a largura das colunas aumenta. 52
FIGURA 2.15 - Influência da temperatura do substrato na microestrutura/morfologia do material depositado, de acordo com o modelo de Yang. FONTE: [41]. A Figura 2.16 apresenta o efeito da taxa de deposição na microestrutura do filme, fixando a temperatura do substrato. As altas taxas de deposição geram estruturas colunares com baixa massa específica, sendo que, para taxas maiores de deposição, as temperaturas de transição são mais elevadas. 53
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