Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

FIGURA 3.2 - Vista frontal do interior da câmara do EB-PVD modificado (unidades em
mm).
3.1.3.1 Projeto e Construção do Sistema de Aquecimento do Substrato
Sendo as propriedades físicas dos revestimentos dependentes da microestrutura e
esta dependente principalmente da temperatura do substrato durante a deposição, foi
necessário projetar e construir um dispositivo para aquecimento. O problema não é de
solução simples, uma vez que a temperatura ideal para a deposição dos filmes cerâmicos
é relativamente elevada (aproximadamente 1000 o C) e a região aquecida deve ser apenas
a região do suporte para as amostras, por limitações do forno de evaporação.
Supondo que no ambiente de vácuo da câmara de evaporação, as perdas de calor
ocorram apenas por radiação (o ambiente de vácuo minimiza as perdas por convecção e
o suporte do porta-amostras tem um isolamento térmico que reduz as perdas térmicas
por condução) e que a temperatura ambiente seja 25 o C, pode-se calcular a potência
necessária para manter as amostras em uma dada temperatura pela Equação [108]:
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