Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

massas específicas aparente e teórica, são apresentados na Tabela 4.9. Para comparação,
essa tabela também apresenta valores de massa específica publicados por alguns
pesquisadores.
TABELA 4.9 - Parâmetros de rede calculados para vários tipos de amostras de
revestimentos cerâmicos.
Amostra a c c/a c/a* ρ (aparente) ρ (teórico)
cer-01 5,0730 5,1650 1,0181 1,0106 - 6,115
cer-02 5,0990 5,1930 1,0184 1,0106 - 6.020
cer-03 5,1180 5,2050 1,0170 1,0106 4,42 5,961
cer-04 5,1040 5,1620 1,0114 1,0106 4,74 6,047
cer-05 5,1070 5,1650 1,0114 1,0106 4,51 6,037
cer-06 5,1170 5,1970 1,0156 1,0106 4,19 5,995
cer-07 5,0950 5,1490 1,0106 1,0106 - 6,093
cer-08 - - - - 3,62 -
cer-09 5,1000 5,2320 1,0259 1,0202 3,80 6,021
cer-10 5,0840 5,2150 1,0258 1,0195 3,95 6,062
cer-11 5,1240 5,2030 1,0154 1,0251 5,83 5,996
cer-12 5,0960 5,1780 1,0161 1,0224 - 6,104
cer-13 5,1050 5,3190 1,0419 1,0291 - 5,986
cer-14 5,1240 5,2770 1,0299 1,0300 5,47 5,925
An [79] (8%Y2O3) 5,41
Scardi
[83]
(8%Y2O3)
* Calculado pelas Equações 2.18 e 2.19.
142
1,0078
a
1,0103
4,7 a 4,54
6,050
a
6,030
Não foi possível correlacionar as variáveis de processo (taxa de deposição,
temperatura do substrato, posição em relação à fonte de vapor) com a intensidade
relativa dos diversos picos dos difratogramas. Como os depósitos cerâmicos obtidos por
PVD apresentam uma textura cristalográfica muito acentuada e dependente da
incidência do fluxo de vapor com o substrato, e como os difratogramas são obtidos com
a incidência dos raios X normais à superfície do substrato (normais à direção de
crescimento das colunas), qualquer pequeno desvio em uma destas duas direções faz
com que a intensidade relativa dos diversos picos dos difratogramas varie de forma
muito acentuada tornando muito difícil relacionar as intensidades relativas com as
variáveis de processo ou mesmo com a composição química dos revestimentos
cerâmicos. No entanto, a técnica de difração de raios X com alta resolução angular
permite determinar os parâmetros de rede cristalina com bastante precisão. A posição
dos picos está correlacionada com os parâmetros de rede do reticulado cristalino e estes
variam principalmente com a temperatura de deposição e com a composição química
dos filmes.
Observa-se, a partir dos dados experimentais, que, para depósitos de zircônia
com 8% em peso de ítria, existe uma correlação linear entre temperatura do substrato e
o grau de tetragonalidade, relação entre os parâmetros de rede c/a do reticulado
cristalino do depósito cerâmico calculada a partir das posições dos picos de difração