Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

Além da influência da temperatura e rugosidade do substrato, do efeito da
rotação e da taxa de rotação, outras variáveis podem ser introduzidas para a obtenção de
determinados efeitos no substrato. Por exemplo, a oscilação do substrato ou oscilação
no ângulo de incidência do fluxo de vapor permite a formação de uma estrutura em zigzag
que poderia reduzir a condutividade térmica do revestimento [33, 47].
2.7 Obtenção de Filmes por PVD
A obtenção de filmes por evaporação é um processo empregado em diversos
setores industriais. Para tanto, é utilizado um ambiente de vácuo e calor necessário à
evaporação do material. O vapor forma uma nuvem de átomos ou moléculas que
condensa como filme ou revestimento em um substrato mantido a uma dada
temperatura. Quando em ambiente de vácuo, a temperatura de evaporação dos materiais
é sensivelmente reduzida assim como a formação de óxidos e a incorporação de
impurezas no revestimento [35, 48].
Normalmente, os filmes são depositados em pressões, no interior da câmara de
evaporação, da ordem de 13. 10 -3 Pa (10 -5 Torr) ou, no caso de revestimentos para
aplicações especiais, pressões de até 13.10 -7 Pa (10 -9 Torr) podem ser utilizadas. Nesses
níveis de pressão, o número de colisões entre moléculas de vapor e gás residual é
mínimo, garantindo um percurso retilíneo para a maioria delas, sendo possível colocar o
substrato a distâncias de 10 a 50 cm da fonte [48, 49].
Existem diversos métodos para se conseguir evaporação, como por exemplo, o
aquecimento dos materiais por resistência elétrica, por arco elétrico, por rádio
freqüência, por laser e por feixe eletrônico [48].
Utilizando-se feixe eletrônico (2.19), os elétrons são acelerados através de um
campo de 5 a 25 kV e focalizados, por meio de lentes magnéticas, na superfície do
material a ser evaporado, eliminando os inconvenientes apresentados pelos outros
métodos de aquecimento relacionados à reação do material com o cadinho de suporte e
às baixas taxas de evaporação [48].
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