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Estudo de revestimentos cerâmicos sobre substrato metálico obtido

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penetrado pelo in<strong>de</strong>ntador e a <strong>de</strong>formação plástica do material do <strong>substrato</strong> (camada <strong>de</strong><br />

ligação e superliga) induz uma tensão compressiva radial. Esta tensão é transferida<br />

através da espessura do revestimento, agindo como força motriz <strong>de</strong> crescimento <strong>de</strong> uma<br />

trinca na interface (similar a uma <strong>de</strong>laminação espontânea) [105].<br />

A tenacida<strong>de</strong> interfacial po<strong>de</strong> ser <strong>de</strong>terminada pela análise mecânica do<br />

problema e medidas da in<strong>de</strong>ntação e do raio da <strong>de</strong>laminação. Além disto, <strong>de</strong>ve-se levar<br />

em consi<strong>de</strong>ração a espessura do revestimento, as tensões residuais e as proprieda<strong>de</strong>s<br />

elásticas do revestimento e do <strong>substrato</strong> (Figura 2.39).<br />

FIGURA 2.39 - Diagrama do teste <strong>de</strong> in<strong>de</strong>ntação.<br />

FONTE: adaptada <strong>de</strong> [105].<br />

Vasinonta e colaboradores [105], utilizando TBC <strong>de</strong> zircônia estabilizada com<br />

ítria <strong>obtido</strong> por EB-PVD, apresentam os procedimentos para calcular a tenacida<strong>de</strong><br />

interfacial por meio <strong>de</strong> um mo<strong>de</strong>lo normalizado <strong>de</strong> in<strong>de</strong>ntação e do raio <strong>de</strong> <strong>de</strong>laminação<br />

observado. As equações são apresentadas para um sistema TBC <strong>de</strong> multicamadas. Com<br />

o uso <strong>de</strong>stas equações e com os valores <strong>de</strong> tensão residual, módulo <strong>de</strong> elasticida<strong>de</strong>, etc.,<br />

é possível relacionar R/a (R – raio da <strong>de</strong>laminação, a – raio <strong>de</strong> contato) com a<br />

tenacida<strong>de</strong> interfacial (Tabela 2.8).<br />

TABELA 2.8 Relação entre raio <strong>de</strong> <strong>de</strong>laminação normalizado e tenacida<strong>de</strong> interfacial.<br />

R/a Tenacida<strong>de</strong> (MPa m 1/2 )<br />

1,0 3,7<br />

6,55 1,4<br />

10,0 1,1<br />

10,3 1,1<br />

FONTE: adaptada <strong>de</strong> [105].<br />

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