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Laser-Wakefield-Beschleunigung am JETI-Einfluss der ...

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2. GrundlagenIn den Messungen im Rahmen dieser Arbeit wird die Auswirkung verschiedene Par<strong>am</strong>eterdes <strong>Laser</strong>pulses auf den <strong>Beschleunigung</strong>sprozess <strong>der</strong> <strong>Laser</strong>-<strong>Wakefield</strong>-<strong>Beschleunigung</strong>untersucht. Im ersten Teil dieses Kapitels sind aus diesem Grund die grundlegendenGleichungen zur Beschreibung von <strong>Laser</strong>pulsen und <strong>der</strong> Ausbreitung von <strong>Laser</strong>strahlenzus<strong>am</strong>mengefasst. Im zweiten Teil werden die Eigenschaften des Plasmas beschrieben,bevor im dritten Teil auf die Entwicklung von <strong>Laser</strong>pulsen im Plasma und den <strong>Beschleunigung</strong>sprozessselbst eingegangen wird. Es werden dabei unter an<strong>der</strong>em vereinfachteModelle gezeigt, mit denen einige <strong>der</strong> Resultate aus den Experimenten erklärt werdenkönnen.2.1. <strong>Laser</strong>pulse und ihre EigenschaftenIn diesem Abschnitt werden die Grundbegriffe zur Beschreibung <strong>der</strong> Ausbreitung von<strong>Laser</strong>pulsen im Vakuum und im Medium zus<strong>am</strong>mengefasst. Die ersten beiden Abschnitteorientieren sich an den Lehrbüchern von A. Siegman 9 und B. Teich, 10 <strong>der</strong> dritte Abschnittan <strong>der</strong> Veröffentlichung von Pretzler et al. 112.1.1. Beschreibung kurzer <strong>Laser</strong>pulseKurze, modengekoppelte <strong>Laser</strong>pulse können in <strong>der</strong> Slowly Varying Envelope Approximationdurch ihre Einhüllende A(t) und einen mit <strong>der</strong> Frequenz ω 0 oszillierenden Anteilbeschrieben werden. Hat die Einhüllende die Form einer Gaußkurve, ist das elektrischeFeld des Pulses gegeben durch]E(t) = A(t) · exp(iω 0 t) = A 0 exp[−2 ln 2 · t2τp2 · exp(iω 0 t) (2.1)und die Intensität mit I(t) ∝ |E(t)| 2 durch]I(t) = I 0 exp[−4 ln 2 · t2τp2 . (2.2)3

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