Rasterkraftmikroskopische Untersuchungen an nativen biologischen ...

GRUNDLAGEN UND METHODEN
1 Rasterkraftmikroskopie
kann (Abb. 2, 4). Dieser Effekt ist abhängig von der Rasterungsgeschwindigkeit. Will man ihn
ähnlich gering halten wie bei der Abbildung von Proteinkristallen (Zeilenfrequenz der Größenordnung
5-10 Hz), kommt man bei dem kleineren Rasterungsbereich bei atomarer Auflösung schnell
in Größenordnungen über 50 Hz für die Zeilenfrequenz, was unter Umständen bereits Artefakte
(Oszillationen) zur Folge haben kann.
1.2.2 Eichstandards für axiale Kalibration
Neben speziellen Halbleiter-Eichstandards mit Stufenhöhen von 25 bis 500 nm (z. B. von Silicon-
MDT) stehen atomare Stufen (bzw. deren Vielfache) von Glimmer (1,0 nm) und Übergangsmetalldichalkogeniden
(Abb. 5, 6) zur Verfügung. Beim Spalten der Schichtkristalle erhält man atomar
glatte van-der-Waals-Oberflächen mit gelegentlichen atomaren Stufen.
Korrosionsdefekte auf Kristallen von Übergangsmetalldichalkogeniden eignen sich sehr gut für
die vertikale Kalibration des Scanners (z. B. MoTe 2 , Müller und Engel, 1997). Misst man auf
diesen Oberflächen in Elektrolytlösung, so zeigen sich nach Stunden Defekte wachsenden Ausmaßes,
die Stufen einer oder weniger Kristall-Schichtdicken bilden. Bei den drei hier verwendeten
Substanzen (ReSe 2 , WSe 2 , WTe 2 ) zeigte sich dieser Korrosionseffekt in Elektrolytlösung nur
bei WTe 2 (Abb. 5). Dies ist dadurch zu erklären, dass sowohl WTe 2 als auch MoTe 2 von ihren
elektronischen Eigenschaften her metallischer Natur sind, während ReSe 2 und WSe 2 Halbleiter-
Eigenschaften aufweisen (Parkinson in Colton et al., 1998).
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