Pulverfließeigenschaften - Lehrstuhl Mechanische Verfahrenstechnik
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tung, z.B. Hartstoffe (Karbide, Nitride), Atomkristalle: nichtmetallische<br />
Kristalle aus einer einzigen Atomsorte, z.B. Diamant, Si, P, As, S<br />
- heteropolare (= Ionenbindung):<br />
Valenzelektronen werden von einem Atom abgegeben und vom anderen<br />
aufgenommen, ungerichtete elektrostatische (COULOMB-) Anziehungskraft<br />
zwischen Anion (- geladen) und Kation (+ geladen) in einem Ionengitter (=<br />
Ionenkristall), Ionenkristalle bestehen aus mindestens 2 Atomsorten, insbesondere<br />
mit Metallionen, z.B. Salze, NaCl, CaF2, Oxidkeramik, MgO, Minerale<br />
und<br />
- metallische Bindungen (= „Elektronengas-Modell“):<br />
frei bewegliche Valenzelektronen im Kristallgitter aus Metallkationen, Kristallorbitalmodell,<br />
ungerichtet<br />
mehr oder weniger vollständig abgesättigt. Sie scheiden deshalb als Adhäsionskräfte<br />
zwischen Partikeln weitgehend aus. Folglich werden damit sog.<br />
schwache Nebenvalenzbindungen zwischen den Atomen, Ionen oder Molekülen<br />
der kontaktierenden Partikeln wirksam:<br />
� Wasserstoffbrückenbindungen<br />
� VAN-DER-WAALS-Kräfte und<br />
� elektrostatische Kräfte<br />
6.1.1.2 Adhäsionskräfte<br />
6.1.1.2.1 Wasserstoffbrückenbindungen<br />
Gerichtete Bindungsbrücke zwischen einem elektronegativen Atom (z.B. O, N,<br />
F, Cl), an das der Wasserstoff kovalent gebunden ist, und einem ebenfalls<br />
elektronegativen Atom eines Nachbarmoleküls, an das es mehr oder weniger<br />
physikalisch gebunden ist, und zwar aufgrund seiner Tendenz zu positiver Polarisation<br />
H + und seines geringen Durchmessers dH = 0,22 nm, schlüpft es als<br />
Brücke in die Gitterzwischenräume O - H--O.<br />
Der Atomkernabstand der H--O Bindung ist mit a = 0,176 nm größer als der<br />
einer intensiveren kovalenten O - H Bindung mit<br />
= r + r = ( 0,<br />
066 + 0,<br />
03)<br />
nm = 0,<br />
096 nm ≈ 0,<br />
1 nm ,<br />
a O H<br />
aber kleiner als der Abstand gebildet durch die beiden Atomradien von<br />
= r + r = 0,<br />
15 nm + 0,<br />
11 nm = 0,<br />
26nm<br />
a O H<br />
einer schwächeren VAN-DER-WAALS-Bindung.<br />
Wasserstoffbrückenbindungen treten zwischen -OH, -NH2 oder ähnlichen<br />
Gruppen in den Partikeloberflächen bzw. in den adsorbierten Hydrathüllen der<br />
Oberflächen auf. Bei wasserstoffhaltigen Stoffen sind sie neben den VAN-<br />
MVT_e_6neu <strong>Mechanische</strong> <strong>Verfahrenstechnik</strong> - Partikeltechnologie Schüttgutspeicherung Prof. Dr. J. Tomas,<br />
10.10.2012<br />
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