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Pulverfließeigenschaften - Lehrstuhl Mechanische Verfahrenstechnik

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tung, z.B. Hartstoffe (Karbide, Nitride), Atomkristalle: nichtmetallische<br />

Kristalle aus einer einzigen Atomsorte, z.B. Diamant, Si, P, As, S<br />

- heteropolare (= Ionenbindung):<br />

Valenzelektronen werden von einem Atom abgegeben und vom anderen<br />

aufgenommen, ungerichtete elektrostatische (COULOMB-) Anziehungskraft<br />

zwischen Anion (- geladen) und Kation (+ geladen) in einem Ionengitter (=<br />

Ionenkristall), Ionenkristalle bestehen aus mindestens 2 Atomsorten, insbesondere<br />

mit Metallionen, z.B. Salze, NaCl, CaF2, Oxidkeramik, MgO, Minerale<br />

und<br />

- metallische Bindungen (= „Elektronengas-Modell“):<br />

frei bewegliche Valenzelektronen im Kristallgitter aus Metallkationen, Kristallorbitalmodell,<br />

ungerichtet<br />

mehr oder weniger vollständig abgesättigt. Sie scheiden deshalb als Adhäsionskräfte<br />

zwischen Partikeln weitgehend aus. Folglich werden damit sog.<br />

schwache Nebenvalenzbindungen zwischen den Atomen, Ionen oder Molekülen<br />

der kontaktierenden Partikeln wirksam:<br />

� Wasserstoffbrückenbindungen<br />

� VAN-DER-WAALS-Kräfte und<br />

� elektrostatische Kräfte<br />

6.1.1.2 Adhäsionskräfte<br />

6.1.1.2.1 Wasserstoffbrückenbindungen<br />

Gerichtete Bindungsbrücke zwischen einem elektronegativen Atom (z.B. O, N,<br />

F, Cl), an das der Wasserstoff kovalent gebunden ist, und einem ebenfalls<br />

elektronegativen Atom eines Nachbarmoleküls, an das es mehr oder weniger<br />

physikalisch gebunden ist, und zwar aufgrund seiner Tendenz zu positiver Polarisation<br />

H + und seines geringen Durchmessers dH = 0,22 nm, schlüpft es als<br />

Brücke in die Gitterzwischenräume O - H--O.<br />

Der Atomkernabstand der H--O Bindung ist mit a = 0,176 nm größer als der<br />

einer intensiveren kovalenten O - H Bindung mit<br />

= r + r = ( 0,<br />

066 + 0,<br />

03)<br />

nm = 0,<br />

096 nm ≈ 0,<br />

1 nm ,<br />

a O H<br />

aber kleiner als der Abstand gebildet durch die beiden Atomradien von<br />

= r + r = 0,<br />

15 nm + 0,<br />

11 nm = 0,<br />

26nm<br />

a O H<br />

einer schwächeren VAN-DER-WAALS-Bindung.<br />

Wasserstoffbrückenbindungen treten zwischen -OH, -NH2 oder ähnlichen<br />

Gruppen in den Partikeloberflächen bzw. in den adsorbierten Hydrathüllen der<br />

Oberflächen auf. Bei wasserstoffhaltigen Stoffen sind sie neben den VAN-<br />

MVT_e_6neu <strong>Mechanische</strong> <strong>Verfahrenstechnik</strong> - Partikeltechnologie Schüttgutspeicherung Prof. Dr. J. Tomas,<br />

10.10.2012<br />

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