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supraleitender Halbwellenresonatoren zur Beschleunigung leichter Ionen

Hochfrequenzeigenschaften gepulster, supraleitender ... - JuSER

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entlang der gesamten Struktur, während die dritte Lanze durch die Strahlöffnungen speziell<br />

den kritischen Bereich der mittleren Abflachung spült. Bei der Auslegung wurde bereits der<br />

Kleinseriendurchsatz von 44 Kavitäten berücksichtigt und eine Wasseraufbereitungsanlage<br />

entsprechend der Spüldauer dimensioniert. Aus den Felddarstellungen in Abb. 4.8 und Abb.<br />

4.9 erkennt man sehr leicht die kritischen Flächen. Besonders weisen die Bereiche der<br />

Strahlöffnungen und der Übergangsbereich eine hohe elektrische Feldstärke auf und erfordern<br />

daher eine Beseitigung der aufliegenden Fremdpartikel <strong>zur</strong> Vermeidung der Feldemission. Im<br />

Bereich hoher magnetischer Felder wird eine gute Reinigung angestrebt, da dort zum einen<br />

durch Fremdpartikel zusätzliche Wärmeverluste im Bereich hoher Ströme entstehen und die<br />

Quenchgefahr erhöhen, und zum anderen diese Fremdpartikel als Feldemitter maßgeblich das<br />

Multipacting mit beeinflussen.<br />

Die Auslegung der optimierten Hochdruck-Spülanlage berücksichtigt diese Gefahrenpunkte,<br />

allerdings ergeben sich aufgrund der komplexen Struktur Bereiche mit schlechtem<br />

Wasserablauf (Abb. 4.15). Diese Bereiche erfordern eine besondere Beobachtung, da sich dort<br />

sehr leicht Ablagerungen von entfernten Partikeln oder Salzen niederschlagen. Eine<br />

anschließende Reinstwasserfüllung mit nachfolgender, kontrollierter Trocknung im Reinraum<br />

kann dieses Problem allerdings minimieren.<br />

Zur chemischen Bearbeitung der Prototypen wurde das bekannte BCP-Verfahren (Buffered<br />

Chemical Polishing) eingesetzt. BCP benutzt eine Mixtur aus Flusssäure (HF), Salpetersäure<br />

(HNO 3 ) und Phosphorsäure (H 3 PO 4 ) im Verhältnis 1:1:2.<br />

Bei der starken exothermischen Reaktion der Säuren mit der Resonatoroberfläche entstehen<br />

große Mengen von Gasen, darunter vornehmlich Wasserstoff, der durch die sich ergebenden<br />

hohen Temperaturen leicht ins Niob eindringen kann. In Abhängigkeit der Abkühlprozedur<br />

kann es durch diesen Wasserstoff zu einer drastischen Reduktion der Leerlaufgüte Q 0 des<br />

Resonators kommen. Dieser Effekt wurde erstmals in den 80er Jahren entdeckt und trägt den<br />

Namen Q-Desease [Bonin91]. Daher wird eine chemische Politur im Durchflussverfahren mit<br />

Regulierung der Säurentemperatur notwendig. Die Abrundungen an den Endkappen der HWR<br />

reduzieren dabei die Gefahr von Verwirbelungen und ermöglichen eine gleichmäßige<br />

Strömung der Säuren an jedem Oberflächenpunkt der Kavität.<br />

Die während der mechanischen Bearbeitung auftretenden Beschädigungen der Niob<br />

Oberflächen sowie Fremdeinschlüsse durch die Umformverfahren erfordern einen Abtrag von<br />

min. 120 µm.<br />

Für den Prototyp vom Typ II wurde insbesondere die Möglichkeit der Elektropolitur (EP)<br />

untersucht. Trotz der recht komplizierten Geometrie der HWR ist eine Elektropolitur möglich<br />

[Henkel03]. Während bei einer chemischen Politur vornehmlich die Korngrenzen angegriffen<br />

und gerundet werden, erlaubt die Elektropolitur eine Glättung der gesamten Oberfläche und<br />

führt somit zu einer merklichen Reduzierung des Oberflächenwiderstandes. Hierbei wird wie<br />

beim reinen BCP-Verfahren eine gesamte Abtragung von 120 µm angestrebt. Dazu werden<br />

zunächst 70 µm über BCP geätzt und anschließend eine 50 µm Schicht über EP entfernt.

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