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3. Untersuchung magnetischer Eigens
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3. Untersuchung magnetischer Eigens
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3. Untersuchung magnetischer Eigens
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4. Sputtersystem zur in situ Neutro
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4. Sputtersystem zur in situ Neutro
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4. Sputtersystem zur in situ Neutro
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4. Sputtersystem zur in situ Neutro
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4. Sputtersystem zur in situ Neutro
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4. Sputtersystem zur in situ Neutro
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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5. Inbetriebnahme und Verbesserung
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6. In situ Untersuchung der magneti
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6. In situ Untersuchung der magneti
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6. In situ Untersuchung der magneti
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6. In situ Untersuchung der magneti
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6. In situ Untersuchung der magneti
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7. Der ferromagnetische Halbleiter
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7.2. Elektronische Eigenschaften vo
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7.2. Elektronische Eigenschaften vo
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7.3. Magnetische Eigenschaften von
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7.3. Magnetische Eigenschaften von
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7.4. Einwirkung von biaxialem Stres
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7.5. Wachstum und Strukturierung vo
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7.5. Wachstum und Strukturierung vo
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7.5. Wachstum und Strukturierung vo
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8. Anwendung von biaxialem Stress I
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8.1. Einfluss von biaxialem Stress
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8.2. Einfluss unterschiedlicher Git
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9. Untersuchung des Dotierverhalten
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9.2. Dotierverhalten La-dotierter E
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9.3. Vergleich der La-, Gd- bzw. Lu
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9.3. Vergleich der La-, Gd- bzw. Lu
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9.3. Vergleich der La-, Gd- bzw. Lu
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9.3. Vergleich der La-, Gd- bzw. Lu
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9.3. Vergleich der La-, Gd- bzw. Lu
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10. Wachstum epitaktischer EuO-Film
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.2. Untersuchung des Wachstumsmec
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10.3. Eigenschaften der gesputterte
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10.3. Eigenschaften der gesputterte
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10.3. Eigenschaften der gesputterte
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10.4. Thermodynamische Betrachtung
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10.4. Thermodynamische Betrachtung
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10.5. Schichtdicken- und Temperatur
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10.6. Ausweitung auf andere Substra
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10.7. Optimierte Titan-Schichtdicke
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10.8. Oxidation des Ti-Films Intens
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10.10. Herstellung Gd-dotierter Fil
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10.10. Herstellung Gd-dotierter Fil
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Teil IV. Zusammenfassung und Ausbli
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11. Zusammenfassung Die magnetische
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11. Zusammenfassung dung gebundener
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12. Ausblick vorliegen. Zum anderen
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12. Ausblick reicher Kandidat. Wom
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A. Ergänzungen zur Dünnfilmtechno
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A.1. Reflektometrie Mithilfe der Br
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A.2. Weitere Methoden zur Untersuch
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A.2. Weitere Methoden zur Untersuch
- Seite 199 und 200:
A.2. Weitere Methoden zur Untersuch
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B. Technische Zeichnungen Auf Seite
- Seite 203 und 204:
60,0° 45,0° 25,0° 12,0 Schnitt B
- Seite 205 und 206:
C. Wachstum von Kupfer auf Silizium
- Seite 207 und 208:
10 5 Cu(111) Si(220) Cu(222) Si(440
- Seite 209 und 210:
D. Verwendung von Eu 2 O 3 als Capp
- Seite 211 und 212:
E. Bestimmung der Curie-Temperatur
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0.03 0.025 0 T 0.04 0.035 0.03 0.00
- Seite 215 und 216:
Dotant 10 G 100 G 1000 G undotiert
- Seite 217 und 218:
F. Eisen-dotierte EuO-Filme Da das
- Seite 219 und 220:
würde die Eu 2+ -Fehlstelle die vo
- Seite 221 und 222:
G. Berechnung thermodynamischer Pot
- Seite 223 und 224:
H. Wachstum von EuO-Filmen mittels
- Seite 225 und 226:
Intensität (a. u.) 10 5 10 4 10 3
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Die Curie-Temperatur des gezeigten
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Magnetisches Moment (10 -4 emu) 0.0
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Intensität (a. u.) 10 4 10 3 100 1
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einem Eu 2 O 3 (401)-Peak aufgrund
- Seite 235 und 236:
* * THM_EuO_191 Intensität (a. u.)
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Literaturverzeichnis [1] The 2011 d
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Publikationen A T. Mairoser, A. Sch
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