Doktorarbeit_Mairoser.pdf - OPUS - Universität Augsburg
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5.2. Identifizierte Verbesserungsmaßnahmen<br />
Zur Untersuchung von Heterostrukturen bestehend aus verschiedenen Materialien<br />
wurde schließlich, ebenfalls in situ, Cr auf die Ni-Schichten deponiert. Die Sputterparameter<br />
waren P DC = 25 W, p = 0,01 mbar, Ar-flow = 2,0 SCCM, z = −15 mm und<br />
t D = 214 s, woraus sich eine Schichtdicke von 53 nm ergab. In Abbildung 5.2 ist die<br />
deutliche Veränderung der Reflektivität zu erkennen. Die gemessene Kurve stimmt<br />
sehr gut mit der Simulation überein. Aufgrund des geringeren kritischen Impulsübertrags<br />
von Cr (q cCr = 0,0123 1 /Å) im Vergleich zu Ni wird ein zweiter kritischer Winkel<br />
erwartet. Da nicht für genügend kleine Impulsüberträge gemessen wurde, ist dieser in<br />
den Messdaten aber nicht sichtbar.<br />
Während der ersten Strahlzeit an REFSANS konnte gezeigt werden, dass die in situ<br />
Neutronen-Reflektometrie an gesputterten Schichten prinzipiell gut funktioniert.<br />
Auch die Messzeiten zur Charakterisierung der Schichten sind in einem annehmbaren<br />
Rahmen. So wurden zur Generierung der ersten drei Messkurven in Abbildung 5.2<br />
jeweils 60 Minuten bei einem Einfallswinkel von θ = 0,39 ◦ gemessen. Für die weiteren<br />
Kurven wurde zusätzlich ein zweiter Winken bei θ = 1 ◦ eingestellt, wofür Messzeiten<br />
im Bereich von 10 Stunden verwendet wurden. Diese vermeintlich lange Messzeit ist<br />
durch den starken Abfall der Reflektivität für große Winkel nach Gleichung 2.16 zu<br />
erklären. Da aber dünne Filme untersucht wurden, sind diese Zeiten annehmbar.<br />
Während dieser ersten Strahlzeit an REFSANS wurden für das Sputtersystem allerdings<br />
auch Optimierungs- und Erweiterungsmöglichkeiten identifiziert, die im folgenden<br />
Abschnitt vorgestellt werden.<br />
5.2. Identifizierte Verbesserungsmaßnahmen<br />
Bei den Messungen, insbesondere beim Einrichten der Probe, ist eine fehlende Kommunikationsmöglichkeit<br />
zwischen den Steuerrechnern des Sputtersystems und der<br />
Beamline sehr hinderlich. So mussten zum Justieren der Probe im Strahl immer mindestens<br />
zwei Personen anwesend sein, eine am Steuerrechner des Sputtersystems um<br />
Fahrbefehle in x-, z- oder θ-Richtung auszuführen, die von der anderen Person am<br />
REFSANS-Rechner vorgegeben wurden. Eine direkte Möglichkeit, die es REFSANS<br />
erlaubt, die genannten Richtungen selbstständig anzusteuern, würde den Zeit- und<br />
Personalaufwand deutlich reduzieren.<br />
Weiterhin wurde, wie bereits erwähnt, bei der Drehung des Probenheizers (θ-Richtung)<br />
ein Spiel im Schneckenantrieb festgestellt. Dieses erzeugt bei nötigen Richtungswechseln<br />
große Unsicherheiten im tatsächlichen Einfallswinkel θ und damit im<br />
Impulsübertrag q (Gleichung 2.15). Für eine exakte Auswertung der Reflektometriedaten<br />
sollte der Einfallswinkel aber möglichst genau bekannt sein. Die nötige Genauigkeit<br />
liegt im Bereich von etwa 0,003 ◦ . Daher ist eine exakte Auslesung der θ-Position<br />
nötig.<br />
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