Doktorarbeit_Mairoser.pdf - OPUS - Universität Augsburg

5. Inbetriebnahme und Verbesserung des Sputtersystems
(a)
(b)
Abbildung 5.1.: Fotografien des Sputtersystems in der Experimentierkammer der Beamline
REFSANS (a) und des Elektronikracks auf dem Strahlengang der Beamline
(b). (Fotos J. Mannhart.)
20 mm × 20 mm heraus. Hier ist eine gleichmäßige Ausleuchtung der Probe möglich
und die Schichtdicken der deponierten Filme sind über die komplette Probe nahezu
homogen.
5.1. Wachstum von Ni-Cr-Multilagen
Um zu zeigen, dass die in situ Neutronen-Reflektometrie auch an Multilagen funktioniert,
wurden auf ein Si(001)-Substrat von mir und von Dr. Wolfgang Kreuzpaintner
sukzessive Ni-Schichten aufgesputtert. Zwischen den Depositionen wurden von uns
in Zusammenarbeit mit Dr. Jean-Francois Moulin und Martin Haese-Seiller jeweils
die Reflektivitäten gemessen. Schließlich wurde eine Cr-Schicht aufgebracht, um zu
zeigen, dass auch Multilagen aus unterschiedlichen Materialien mithilfe der in situ
Neutronen-Reflektometrie untersucht werden können.
Das im Ultraschall mit Aceton und Isopropanol gereinigte Si(001)-Substrat (20 mm ×
20 mm) wurde mittels Leitsilber auf den B 4 C-Puck geklebt. Nach einer Trockenzeit
von etwa einer halben Stunde wurde dieser in die Vakuumkammer eingebaut und die
Probe im Strahl justiert. Daran anschließend wurde die Reflektivität des Si-Substrats
in Abhängigkeit des Streuvektors bestimmt (Abbildung 5.2). Der gemessene kritische
Wellenvektor q c = 0,00967 1 /Å für das Substrat ist etwas kleiner als der für Silizium
q cSi = 0,0102 1 /Å nach Gleichung 2.17 berechnete. Dazu wurde die Atomdichte
ρ = 5,00 · 10 28 1/m 3 und die Streulänge b = 4,15 fm angenommen [92]. Der Grund für
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