Doktorarbeit_Mairoser.pdf - OPUS - Universität Augsburg
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5.3. Realisierung von Verbesserungen in einer zweiten Ausbaustufe<br />
Verbesserungsbedarf wurde auch an der Probenposition identifiziert. So liegt die Probe<br />
bei Verwendung von Substraten mit einer für Si-Wafer typischen Dicke von 0,25 mm<br />
leicht unterhalb der B 4 C-Abdeckung des Heizergehäuses (Abbildung 4.3). Um die<br />
Probe bei sehr kleinen Einfallswinkeln messen zu können, sollte diese leicht erhaben<br />
sein.<br />
Schließlich war die diffuse Streuung, die das gewünschte spekulare Messsignal überlagert,<br />
deutlich erhöht im Vergleich zu Messungen mit dem üblicherweise genutzten<br />
Goniometer. Die größten Beiträge dazu liefern wohl besputterte Fenster und der besputterte<br />
Probenhalter. Der letztere Beitrag wird insbesondere durch das Überleuchten<br />
der Probe verstärkt.<br />
5.3. Realisierung von Verbesserungen in einer zweiten<br />
Ausbaustufe<br />
Die im vorherigen Abschnitt genannten Verbesserungsmöglichkeiten wurden in einer<br />
zweiten Ausbaustufe des Sputtersystems umgesetzt. Im Folgenden werden die einzelnen<br />
Maßnahmen erläutert. Die Konstruktionen wurden von Dr. habil. Andreas<br />
Schmehl und Dipl. Ing. (FH) Alexander Herrnberger unter meiner Mitwirkung ausgeführt.<br />
Die dazu erforderlichen Designspezifikationen wurden mit Dr. Jean-Francois<br />
Moulin, Prof. Dr. Peter Böni und Prof. Dr. Jochen Mannhart abgestimmt. Die Einbindung<br />
der neuen Komponenten in die Software sowie die nötigen Anpassungen daran<br />
aufgrund veränderter geometrischer Verhältnisse wurden von mir realisiert.<br />
Abbildung 5.4 zeigt eine Schnittzeichnung der Vakuumkammer in der zweiten Ausbaustufe,<br />
bei der einige Elemente realisiert sind, die im weiteren Verlauf dieses Abschnitts<br />
beschrieben werden. Da zusätzliche Elektronikkomponenten für die zweite Ausbaustufe<br />
erforderlich waren, wurde ein weiteres Elektronik-Rack aufgebaut (Abbildung 5.5).<br />
5.3.1. Blendensysteme<br />
In situ Blendensystem vor der Probe<br />
Zur genauen Ausleuchtung der Probe mit dem Neutronenstrahl wurde ein Blendensystem<br />
entwickelt, das den Neutronenstrahl genau definiert einschränken kann. Da es<br />
sich möglichst nahe an der Probe befinden sollte, wurde es in situ realisiert. Abbildung<br />
5.6 (a) stellt das Blendensystem schematisch dar. Eine Fotografie des fertigen Systems<br />
mit der aktiven Kühlung und dem Joch für das Führungsfeld für die Neutronen zeigt<br />
Abbildung 5.6 (b).<br />
Für ein Blendensystem ist die genau definierte Abschattung des Strahl von großer Bedeutung.<br />
Bei dem realisierten System wurde dies mit Shutterblättern aus Borcarbid<br />
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