Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...
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Kapitel 7: Literatur 117<br />
[130] SuperM.O.L.E. ® Gold, Hardware User’s Guide, A31-0900-00, Rev 3.0 , Copyright<br />
1991-1999 EDC<br />
[131] Deutsche Norm DIN ISO 9022-2, Optik und optische Instrumente -<br />
Umweltprüfverfahren, Teil 2: Kälte, Wärme, Feuchte (1994)<br />
[132] A. Kaless, U. Schulz, N. Kaiser, “Self-organized antireflective nanostructures on<br />
PMMA by ion etching”, Proceedings SPIE, Volume 5965, 525-533 (2005)<br />
[133] I. Lipschitz, “Vibrational Spectrum of Poly (Methyl Methacrylate)”, Polymer Plastics<br />
Technology and Engineering, 19, 54-105 (1982)<br />
[134] D. Fink, Fundamentals of Ion-Irradiated Polymers, Springer-Verlag Berlin<br />
(2004)<br />
[135] K. Lau, „Plasmagestützte Aufdampfprozesse für die Herstellung haftfester optischer<br />
Beschichtungen auf Bisphenol-A Polycarbonat“, Dissertation, eingereicht an der<br />
Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (2006)<br />
[136] D. Poitras, L. Martinu, "Interphase in plasma-deposited films on plastics: effect on the<br />
spectral properties of optical filters", Applied Optics, Volume 39, No. 7, 1168-1173<br />
(2000)<br />
[137] X. D. Zhu, K. Narumi, Y. Xu, H. Naramoto, F. Arefi-Khonsari, “Self-organized<br />
textured surfaces of amorphous carbon”, Journal of Applied Physics, Volume 95,<br />
Number 8, 4105-4410 (2004)<br />
[138] H. H. Chang, M. Y. Lai, J. H. Wei, C. M. Wei, Y. L. Wang, “Structure<br />
Determination of Surface Magic Clusters“, Physical Review Letters, Volume 92,<br />
Number 6, 066103-1 – 066103-4 (2004)<br />
[139] T. Tatsumi, M. Matsui, M. Okigawa, M. Sekine, “Control of surface reactions in highperformance<br />
SiO2 etching”, Journal of Vacuum Science Technology B 18, 4, 1897-<br />
1902 (2000)<br />
[140] G. S. Oehrlein, J. F. Rembetski, E. H. Payne, “Study of sidewall passivation and<br />
microscopic silicon roughness phenomena in chlorine-based reactive ion etching of<br />
silicone trenches“, Journal of Vacuum Science Technology B 8, 6, 1199-1211 (1990)<br />
[141] L. Qi, W. Li, X. Yang, Y. Fang, M. Lu, “Nanostructuring of Si(100) by Normal-<br />
Incident Ar + Ion Sputtering at Low Ion Flux”, Chinese Physics Letters, Volume 22,<br />
431-434 (2005)<br />
[142] U. Schulz, P. Munzert, N. Kaiser, W. Hofmann, M. Bitzer, M. Gebhardt, „Verfahren<br />
und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren<br />
Werkstoffen“, Internationale Patentanmeldung PCT/DE 20047000817 (2003)<br />
[143] Bildmaterial wurde <strong>von</strong> Fresnel Optics zur Verfügung gestellt, http://www.fresneloptics.de