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Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...

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Kapitel 7: Literatur 117<br />

[130] SuperM.O.L.E. ® Gold, Hardware User’s Guide, A31-0900-00, Rev 3.0 , Copyright<br />

1991-1999 EDC<br />

[131] Deutsche Norm DIN ISO 9022-2, Optik und optische Instrumente -<br />

Umweltprüfverfahren, Teil 2: Kälte, Wärme, Feuchte (1994)<br />

[132] A. Kaless, U. Schulz, N. Kaiser, “Self-organized antireflective nanostructures on<br />

PMMA by ion etching”, Proceedings SPIE, Volume 5965, 525-533 (2005)<br />

[133] I. Lipschitz, “Vibrational Spectrum of Poly (Methyl Methacrylate)”, Polymer Plastics<br />

Technology and Engineering, 19, 54-105 (1982)<br />

[134] D. Fink, Fundamentals of Ion-Irradiated Polymers, Springer-Verlag Berlin<br />

(2004)<br />

[135] K. Lau, „Plasmagestützte Aufdampfprozesse für die Herstellung haftfester optischer<br />

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Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg (2006)<br />

[136] D. Poitras, L. Martinu, "Interphase in plasma-deposited films on plastics: effect on the<br />

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(2000)<br />

[137] X. D. Zhu, K. Narumi, Y. Xu, H. Naramoto, F. Arefi-Khonsari, “Self-organized<br />

textured surfaces of amorphous carbon”, Journal of Applied Physics, Volume 95,<br />

Number 8, 4105-4410 (2004)<br />

[138] H. H. Chang, M. Y. Lai, J. H. Wei, C. M. Wei, Y. L. Wang, “Structure<br />

Determination of Surface Magic Clusters“, Physical Review Letters, Volume 92,<br />

Number 6, 066103-1 – 066103-4 (2004)<br />

[139] T. Tatsumi, M. Matsui, M. Okigawa, M. Sekine, “Control of surface reactions in highperformance<br />

SiO2 etching”, Journal of Vacuum Science Technology B 18, 4, 1897-<br />

1902 (2000)<br />

[140] G. S. Oehrlein, J. F. Rembetski, E. H. Payne, “Study of sidewall passivation and<br />

microscopic silicon roughness phenomena in chlorine-based reactive ion etching of<br />

silicone trenches“, Journal of Vacuum Science Technology B 8, 6, 1199-1211 (1990)<br />

[141] L. Qi, W. Li, X. Yang, Y. Fang, M. Lu, “Nanostructuring of Si(100) by Normal-<br />

Incident Ar + Ion Sputtering at Low Ion Flux”, Chinese Physics Letters, Volume 22,<br />

431-434 (2005)<br />

[142] U. Schulz, P. Munzert, N. Kaiser, W. Hofmann, M. Bitzer, M. Gebhardt, „Verfahren<br />

und Werkzeug zur Herstellung transparenter optischer Elemente aus polymeren<br />

Werkstoffen“, Internationale Patentanmeldung PCT/DE 20047000817 (2003)<br />

[143] Bildmaterial wurde <strong>von</strong> Fresnel Optics zur Verfügung gestellt, http://www.fresneloptics.de

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