Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...
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Kapitel 4: Ergebnisse und Diskussion 73<br />
Wie unter 4.1.4 gezeigt, kann <strong>durch</strong> vielseitige Kombination der Plasmaparameter eine optimale<br />
Entspiegelungswirkung auf PMMA erzielt werden. Es wurden an zwei PMMA-Proben, die nach<br />
unterschiedlicher Ar/O2-Plasmabehandlung (bezüglich Bias-Spannung und Zeit) gleiche optische<br />
Eigenschaften in Reflexion und Transmission aufwiesen, rasterelektronenmikroskopische<br />
Untersuchungen <strong>durch</strong>geführt. Die REM-Bilder beider Plasmabehandlungen zeigen dabei keine<br />
Strukturunterschiede (Abb. 51). Demzufolge kann eine identische Struktur mit unterschiedlichen<br />
Parametersätzen erzeugt werden.<br />
Abb. 51: REM-Aufnahmen (25 000x Vergrößerung) <strong>von</strong> PMMA nach verschiedenen<br />
Ar/O 2-Plasmabehandlungen<br />
(a) 450 s, 80 V, 14 sccm Ar, 30 sccm O 2<br />
(b) 300 s, 120 V, 14 sccm Ar, 30 sccm O 2.<br />
(a)<br />
4.4 Zusätzliche Untersuchungen an der plasmaerzeugten AR-Struktur<br />
4.4.1 Temperaturverlauf<br />
Während der Plasmabehandlung wurde der Temperaturverlauf mittels SuperM.O.L.E. ® Gold<br />
aufgezeichnet. Abb. 52 zeigt die Temperaturverläufe auf PMMA während einer Ar-<br />
Plasmabehandlung und einer Ar/O2-Plasmabehandlung über eine Prozessdauer <strong>von</strong> 300 s und<br />
einer Bias-Spannung <strong>von</strong> 120 V. Die Messkontakte zur Erfassung der Temperatur waren auf der<br />
Seite des Substrates angebracht, auf welche das Plasma einwirkt.<br />
Die Temperatur lag zu Beginn des Prozesses jeweils bei 23°C. Nach dem Zünden der<br />
Plasmaquelle steigt in beiden Fällen die Temperatur auf der Substratvorderseite an, die dann<br />
während der Plasmabehandlung weiter zunimmt.<br />
Die graphische Darstellung zeigt deutlich die Unterschiede zwischen den Temperaturverläufen bei<br />
Einwirkung der verschiedenen Plasmen. Während sich bei der Ar/O2-Plasmabehandlung am<br />
Prozessende eine Temperatur <strong>von</strong> ≈ 58°C einstellt, wird bei einer Ar-Plasmabehandlung eine<br />
Temperatur <strong>von</strong> ≈ 42°C erreicht. Nach dem Prozessende sinkt die Temperatur jeweils wieder auf<br />
Raumtemperatur ab (im Diagramm nicht angezeigt). Im Vergleich der beiden Plasmabehandlungen<br />
wird unter Zugabe <strong>von</strong> Sauerstoff auf der Substratoberfläche eine um ≈ 16°C höhere Temperatur<br />
erzielt.<br />
(b)
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