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Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...

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Kapitel 4: Ergebnisse und Diskussion 68<br />

(c) (d)<br />

Abb. 44: AFM-Aufnahmen (1 x 1 µm² Scans) <strong>von</strong> PMMA-Substraten nach verschieden langen Ar/O 2-<br />

Plasmabehandlungen unter Konstanthaltung der anderen Parameter (14 sccm Ar, 30 sccm O 2,<br />

120 V)<br />

(a) nach 50 s (Höhenskala: 50 nm); (b) nach 100 s (Höhenskala: 100 nm)<br />

(c) nach 300 s (Höhenskala: 400 nm); (d) nach 600 s (Höhenskala: 400 nm).<br />

Abb. 45 a) zeigt die Struktur im Oberflächenprofil nach einer Ar/O2-Plasmabehandlung (300 s).<br />

Im Gegensatz zur erhaltenen Struktur führt eine 300 s Ar-Plasmabehandlung nur zu einer sehr<br />

geringen Aufrauung (Abb. 45 b). Die entstandene Rauheit unterscheidet sich nur geringfügig <strong>von</strong><br />

der einer unbehandelten PMMA-Oberfläche (Abb. 45 c). Eine Ar/N2-Plasmabehandlung (Abb.<br />

45 d) zeigt sehr geringe Strukturenhöhen (< 5 nm).<br />

(a) (b)<br />

(c) (d)<br />

Abb. 45: AFM-Profilaufnahmen (1 x 1 µm² Scans)<br />

(a) Ar/O 2-plasmabehandeltes PMMA-Substrat nach 300 s Behandlungszeit (Höhenskala: 200 nm)<br />

(b) Ar-plasmabehandeltes PMMA-Substrat nach 300 s Behandlungszeit (Höhenskala: 5 nm)<br />

(c) unbehandeltes PMMA-Substrat (Höhenskala: 5 nm)<br />

(d) Ar/N 2-plasmabehandeltes PMMA-Substrat nach 300 s Behandlungszeit (Höhenskala: 5 nm).

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