17.12.2012 Aufrufe

Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...

Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...

Oberflächenmodifizierung von Polymethylmethacrylat durch ...

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

Kapitel 2: Theoretische Grundlagen 15<br />

PMMA ist als positives Resistmaterial 3 mit einer sehr hohen Ablationsrate gebräuchlich [49,<br />

50]. Aufgrund dieser Eignung wird es insbesondere in der Mikroelektronik und der<br />

Mikrosystemtechnik für die Produktion <strong>von</strong> Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich<br />

und bei der Leiterplattenherstellung verwendet.<br />

Wesentlicher Rohstoff für die Herstellung <strong>von</strong> PMMA ist Methacrylsäuremethylester bzw.<br />

Methylmethacrylat (MMA). Ausgangsprodukte für das Monomer MMA sind Aceton (aus<br />

Propylen), Blausäure (aus Erdgas und Ammoniak) und Methanol (siehe Abb. 7).<br />

Abb. 7: Bildung <strong>von</strong> Methacrylsäuremethylester aus Aceton, Blausäure und Methanol [51].<br />

Durch radikalische Polymerisation (Substanzpolymerisation 4 ) und Zugabe <strong>von</strong> Initiatoren<br />

entsteht aus dem Monomer MMA das Polymerisat PMMA. Abb. 8 zeigt eine Struktureinheit<br />

im Makromolekül des <strong>Polymethylmethacrylat</strong>s. Die Molekülkette enthält einen schwach<br />

polaren Teil mit relativ starr verbundenen CH3-Gruppen und einen stark polaren Teil, die<br />

Esterseitengruppen mit der charakteristischen Gruppierung -COOCH3. PMMA zählt zu den<br />

amorphen Thermoplasten, d. h. die Kettenmoleküle sind statistisch unregelmäßig angeordnet<br />

und es liegt in den Teilbereichen weder eine Nah- noch Fernordnung der Moleküle vor [48].<br />

Dieser amorphe, glasartige Charakter der Polyacrylate ist <strong>durch</strong> die große Anzahl sperriger<br />

Methylestergruppen in der Molekülstruktur erklärbar.<br />

Abb. 8: Struktureinheit des PMMA.<br />

Die Homogenität amorpher Polymere, d. h. das Fehlen <strong>von</strong> örtlichen Dichte-(Brechzahl-)<br />

Fluktuationen führt zur Unterdrückung der Lichtstreuung im Volumen und damit i. a. zu einer<br />

3 Als Photoresist bezeichnet man in der Regel ein strahlungsempfindliches Polymer, welches in Positiv-<br />

Resist und Negativ-Resist unterschieden werden kann. Durch UV-, Röntgen-, Ionen- oder Elektronen-<br />

bestrahlung werden die Eigenschaften des Polymers verändert.<br />

4 Polymerisation <strong>von</strong> Monomeren in Abwesenheit <strong>von</strong> Lösungsmitteln oder Verdünnungsmitteln. Die<br />

Reaktionsgemische enthalten also nur die reinen Monomere und die für den Start der Polymerisation<br />

erforderlichen Initiatoren oder Katalysatoren.

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!