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Couches minces d'oxyde d'étain: la localisation faible et les effets de ...

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1. INTRODUCTIONtel-00589730, version 1 - 1 May 2011cherché à appliquer <strong>la</strong> théorie quantique <strong>de</strong>s champs <strong>et</strong> le modèle <strong>de</strong> diffusion auxsystèmes fortement désordonnés Medina & Kardar (1992); Shklovskii & Pol<strong>la</strong>k (1991). Iln’existe pas actuellement un modèle général pour <strong>la</strong> <strong>de</strong>scription d’un système fortementdésordonné (où le transport <strong>de</strong> charge se réalise par sauts) en présence d’un champmagnétique extérieur. Certains auteurs supposent que <strong>la</strong> magnétorésistance négativedans le régime <strong>de</strong> saut à distance variable (variable range hopping, VRH) est due auxinclusions <strong>de</strong> phase métallique dans l’iso<strong>la</strong>nt, <strong>les</strong> processus <strong>de</strong>s sauts étant décrits par <strong>de</strong>straj<strong>et</strong>s qui passent à travers ces “gouttes”<strong>de</strong> phase métallique [Ionov & Shlimak (1991)].En tout cas il s’agit plutôt d’un prosessus <strong>de</strong> diffusion particulier, ce qui trouve un pointcommun avec le modèle d’un métal désordonné. On peut donc constater un certainrapprochement entre <strong>les</strong> systèmes à <strong>de</strong>ux dimensions qui montrent un comportementexplicitement métallique (avec <strong>les</strong> eff<strong>et</strong>s d’interaction) <strong>et</strong> <strong>les</strong> systèmes explicitementiso<strong>la</strong>nts (où le régime VRH se réalise) où <strong>la</strong> magnétorésistance négative est observée.Ainsi, <strong>les</strong> propriétés d’un système électronique sont <strong>la</strong>rgement déterminées par le jeu<strong>de</strong> trois facteurs : désordre, interaction <strong>et</strong> dimensionalité.Comme on l’a dit plus haut, le paramètre k F l peut, en général, caractériser le<strong>de</strong>gré du désordre. Regardons maintenant quel paramètre pourrait caractériser le <strong>de</strong>gréd’interaction entre <strong>les</strong> électrons.Pour <strong>les</strong> systèmes à <strong>de</strong>ux dimensions le <strong>de</strong>gré d’interaction entre <strong>les</strong> électrons, r s ,est caractérisé par <strong>la</strong> re<strong>la</strong>tion <strong>de</strong> l’énergie d’interactionE e−e ∼ e2ε (πn)1/2 (1.1)à l’énergie <strong>de</strong> Fermi [Abrahams <strong>et</strong> al. (2001); Pudalov (2006)]ce qui donneE F = π2 n2m ∗ , (1.2)r s = E e−eE F=e 2 2mεπ 1/2 2 n 1/2 ∝ n−1/2 , (1.3)où n est <strong>la</strong> concentration <strong>de</strong>s électrons. Ainsi, pour <strong>de</strong>s systèmes plus purs, une concentrationplus <strong>faible</strong> peut être atteinte dans un régime métallique <strong>et</strong>, donc, une interactionentre électrons plus forte peut se manifester. Ainsi, pour <strong>les</strong> Si MOSFETs, r s 10généralement Abrahams <strong>et</strong> al. (2001). Le comportement métallique <strong>de</strong> ces systèmes4

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