"Création et utilisation d'atlas anatomiques numériques pour la ...

3.1. Caractéristiques des échantillons 63Figure 3.2 Principe du lift-o (a) Dépôt des feuillets de graphène (b) Enductionde la résine positive (c) Insolation (d) Révélation (e) Dépôt d'une couche de métalpar évaporation (f) Retrait de la résine lift-o (tiré de [Cleuziou 2007]).3.1.1.4 GravureLa dernière étape de la fabrication des échantillons est l'étape de gravure. Ellea pour but de modier la forme du feuillet de graphène. Pour cela une étape supplémentairede lithographie électronique est nécessaire, durant laquelle des zones dufeuillet de graphène seront dénies. Le substrat est exposé à un plasma de puissancetrès faible (P = 300W ) durant 25 secondes, les parties du feuillet de graphène exposéessont ainsi détruites, alors que les parties du feuillet recouvertes par la résinesont protégées de la gravure.3.1.1.5 NanorubansLa fabrication de ruban de graphène est un problème technologique complexe.En eet pour que le connement latéral ait des conséquences visibles sur les propriétésélectroniques, des largeurs d'échantillon inférieures à la centaine de nanomètresdoivent être atteintes. Cette gamme de largeur irte avec les limites de résolution dela lithographie électronique, utilisant des résines de type PMMA. Des rubans allantjusqu'a 50nm de large peuvent tout de même être produits en utilisant une méthodesemblable à celle décrite pour dénir des barres de Hall. Un ruban de PMMA estdéni, par lithographie électronique, sur un feuillet de graphène et sert de masquelors de la gravure au plasma oxygène. Pour des résines positives telle que la PMMA,pour dénir un ruban qui servira de masque, il faut insoler tout le reste de la surfacedu feuillet de graphène. Cette façon de procéder à cause des eets de proximité estle principal limitant à la fabrication de nanoruban de taille inférieure à 50nm. L'utilisationde résine négative telle que le HOPG permet de contourner ce problème et