"Création et utilisation d'atlas anatomiques numériques pour la ...
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5.1. E<strong>et</strong> Hall quantique entier dans le graphène tri-couche 91Après déposition des contacts de Ti(5nm)/Au(40nm) par évaporation <strong>et</strong> gravureen barre de Hall, l'échantillon a été recuit à plusieurs reprises. Du fait des faiblesmobilités observées dans le graphène tri-couche, c<strong>et</strong>te étape est indispensable. Lagure 5.2 montre le prol des courbes R(V g ) après les recuits successifs sous vide<strong>et</strong> sous atmosphère d'Hélium à 410K. On voit que le point de neutralité de charge(CNP) est atteint <strong>pour</strong> V CNP = −13.8V , indiquant <strong>la</strong> présence d'un dopage de typen résiduel. Au CNP <strong>la</strong> densité de porteurs résiduel est estimée à n 0 = 8.5×10 11 cm −2 .Si on compare c<strong>et</strong>te valeur avec celle obtenue dans l'échantillon de graphène S1présenté dans le chapitre 4, on remarque que bien que <strong>la</strong> valeur de V CNP soit plusfaible dans le cas du tri-couche, le nombre de porteurs résiduels est plus important.Ceci souligne une fois de plus <strong>la</strong> diculté à obtenir des échantillons intrinsèques degraphène tri-couche malgré des étapes de recuit successif. Les mobilités des porteursextraites de <strong>la</strong> caractéristique R(V g ) sont µ e = 1300±100cm 2 /V.s <strong>pour</strong> les électrons<strong>et</strong> µ h = 900 ± 300cm 2 /V.s <strong>pour</strong> les trous.Figure 5.2 (a) Marques circu<strong>la</strong>ires : résistance longitudinale en fonction de <strong>la</strong>concentration en porteur, à T=4.2K. Ligne continue : ajustement théorique utilisantle modèle développé en [Kim 2009] duquel les valeurs n 0 <strong>et</strong> µ ont été déduites.5.1.2 E<strong>et</strong> Hall <strong>et</strong> détermination de l'empilement5.1.2.1 Conrmation de <strong>la</strong> nature tri-couche de l'échantillonLa gure 5.3 (a) montre le prol de <strong>la</strong> résistance de Hall mesuré dans l'échantillon,en parallèle avec <strong>la</strong> résistance de Hall obtenue expérimentalement <strong>pour</strong> unéchantillon de graphène <strong>et</strong> un échantillon bi-couche. Les densités de porteurs <strong>pour</strong>les trois échantillons sont comparables, en e<strong>et</strong> les pentes de l'e<strong>et</strong> Hall c<strong>la</strong>ssique àbas champ sont quasiment identiques. L'insert de <strong>la</strong> gure 5.3 (a) est une représen-