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Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...

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Seiten-<br />

Gate<br />

Source<br />

Dra<strong>in</strong><br />

a) c)<br />

d<br />

Mesa<br />

l<br />

Seiten-<br />

Gate<br />

200 µm<br />

b)<br />

3.2. Probengeometrie<br />

Abbildung 3.2.: Planare Dioden-Struktur mit Seiten-Gates: REM-Aufnahmen der Probe I.<br />

Mesa<br />

10 µm<br />

a) 120-fache Vergrößerung: Die Aufnahme zeigt die gesamte Mesastruktur.<br />

Sie hat e<strong>in</strong>e Länge lMesa von 750 µm und e<strong>in</strong>e Breite dMesa von 60 µm. Die<br />

roten L<strong>in</strong>ien verdeutlichen die Grenze der 2DEG-Fläche. In der Bildmitte<br />

bef<strong>in</strong>det sich die Nanostruktur. b) 1300-fache Vergrößerung: Die geätzten,<br />

isolierenden Gräben (helle Bereiche) begrenzen den schmalen Kanal im<br />

2DEG und trennen die Seiten-Gates ab. c) 26000- fache Vergrößerung:<br />

Der ca. 500 nm breite 2DEG-Kanal ist deutlich zu erkennen.<br />

Proben Kanalbreite k Grabenbreite g Kanallänge l<br />

(nm) (nm) (µm)<br />

Struktur I 430 300 5,0<br />

Struktur II 360 390 5,5<br />

Tabelle 3.1.: Charakteristische Strukturgrößen für die Proben mit Seiten-Gate-Struktur:<br />

2DEG-Kanalbreite k, geätzte Grabenbreite g und Kanallänge l.<br />

1 µm<br />

21

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