Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...
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Seiten-<br />
Gate<br />
Source<br />
Dra<strong>in</strong><br />
a) c)<br />
d<br />
Mesa<br />
l<br />
Seiten-<br />
Gate<br />
200 µm<br />
b)<br />
3.2. Probengeometrie<br />
Abbildung 3.2.: Planare Dioden-Struktur mit Seiten-Gates: REM-Aufnahmen der Probe I.<br />
Mesa<br />
10 µm<br />
a) 120-fache Vergrößerung: Die Aufnahme zeigt die gesamte Mesastruktur.<br />
Sie hat e<strong>in</strong>e Länge lMesa von 750 µm und e<strong>in</strong>e Breite dMesa von 60 µm. Die<br />
roten L<strong>in</strong>ien verdeutlichen die Grenze der 2DEG-Fläche. In der Bildmitte<br />
bef<strong>in</strong>det sich die Nanostruktur. b) 1300-fache Vergrößerung: Die geätzten,<br />
isolierenden Gräben (helle Bereiche) begrenzen den schmalen Kanal im<br />
2DEG und trennen die Seiten-Gates ab. c) 26000- fache Vergrößerung:<br />
Der ca. 500 nm breite 2DEG-Kanal ist deutlich zu erkennen.<br />
Proben Kanalbreite k Grabenbreite g Kanallänge l<br />
(nm) (nm) (µm)<br />
Struktur I 430 300 5,0<br />
Struktur II 360 390 5,5<br />
Tabelle 3.1.: Charakteristische Strukturgrößen für die Proben mit Seiten-Gate-Struktur:<br />
2DEG-Kanalbreite k, geätzte Grabenbreite g und Kanallänge l.<br />
1 µm<br />
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