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Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...

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5. Experimentelle Ergebnisse und Diskussion<br />

5.4. Interpretation der Sperrung im negativen<br />

Spannungs<strong>in</strong>tervall<br />

Für den Anstieg des differentiellen Widerstandes im negativen Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungs-<br />

bereich (siehe Abbildung 5.9 Punkt BC und CD) werden durch Messungen mit Proben-<br />

strukturen, <strong>in</strong> denen die Asymmetrie und somit der „self-switch<strong>in</strong>g effect“ unterdrückt wird,<br />

mögliche Erklärungen gegeben.<br />

2DEG-Kanal<br />

Abbildung 5.19 zeigt e<strong>in</strong>e ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ie der Probe IV für e<strong>in</strong>e Source-Dra<strong>in</strong>-Span-<br />

nung von VSD = −1,0 V bis VSD = +1,0 V. Diese Probe besitzt ke<strong>in</strong>e 2DEG-Flächen<br />

neben den geätzten Gräben, die den Kanal e<strong>in</strong>grenzen, jedoch ist die ursprüngliche Struk-<br />

tur der planaren Diode ohne Seiten-Gates weiterh<strong>in</strong> zu erkennen (kle<strong>in</strong>e Skizze <strong>in</strong> Abb.<br />

5.19). Da es sich also lediglich um e<strong>in</strong>en 2DEG-Kanal ohne „self-switch<strong>in</strong>g effect“ han-<br />

<br />

Strom I (µA)<br />

SD<br />

40<br />

30<br />

20<br />

10<br />

0<br />

-10<br />

-20<br />

-30<br />

B2<br />

dR B2 = 156 kΩ<br />

dR A = 3 kΩ<br />

A B1<br />

-1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0<br />

Spannung V (V) SD<br />

Spannung (V)<br />

dR B1 = 149 kΩ<br />

Abbildung 5.19.: ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ienverlauf der Probe IV im Source-Dra<strong>in</strong>-<br />

62<br />

Source<br />

Spannungs<strong>in</strong>tervall von VSD = −1,0 V bis VSD = +1,0 V. Sie<br />

besitzt ke<strong>in</strong>e 2DEG-Fläche neben den geätzten Gräben, die den Kanal<br />

e<strong>in</strong>grenzen.<br />

Dra<strong>in</strong>

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