Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...
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5. Experimentelle Ergebnisse und Diskussion<br />
5.4. Interpretation der Sperrung im negativen<br />
Spannungs<strong>in</strong>tervall<br />
Für den Anstieg des differentiellen Widerstandes im negativen Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungs-<br />
bereich (siehe Abbildung 5.9 Punkt BC und CD) werden durch Messungen mit Proben-<br />
strukturen, <strong>in</strong> denen die Asymmetrie und somit der „self-switch<strong>in</strong>g effect“ unterdrückt wird,<br />
mögliche Erklärungen gegeben.<br />
2DEG-Kanal<br />
Abbildung 5.19 zeigt e<strong>in</strong>e ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ie der Probe IV für e<strong>in</strong>e Source-Dra<strong>in</strong>-Span-<br />
nung von VSD = −1,0 V bis VSD = +1,0 V. Diese Probe besitzt ke<strong>in</strong>e 2DEG-Flächen<br />
neben den geätzten Gräben, die den Kanal e<strong>in</strong>grenzen, jedoch ist die ursprüngliche Struk-<br />
tur der planaren Diode ohne Seiten-Gates weiterh<strong>in</strong> zu erkennen (kle<strong>in</strong>e Skizze <strong>in</strong> Abb.<br />
5.19). Da es sich also lediglich um e<strong>in</strong>en 2DEG-Kanal ohne „self-switch<strong>in</strong>g effect“ han-<br />
<br />
Strom I (µA)<br />
SD<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
-30<br />
B2<br />
dR B2 = 156 kΩ<br />
dR A = 3 kΩ<br />
A B1<br />
-1,0 -0,5 0,0 0,5 1,0<br />
Spannung V (V) SD<br />
Spannung (V)<br />
dR B1 = 149 kΩ<br />
Abbildung 5.19.: ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ienverlauf der Probe IV im Source-Dra<strong>in</strong>-<br />
62<br />
Source<br />
Spannungs<strong>in</strong>tervall von VSD = −1,0 V bis VSD = +1,0 V. Sie<br />
besitzt ke<strong>in</strong>e 2DEG-Fläche neben den geätzten Gräben, die den Kanal<br />
e<strong>in</strong>grenzen.<br />
Dra<strong>in</strong>