Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...
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5. Experimentelle Ergebnisse und Diskussion<br />
V = -1V<br />
T<br />
V > 0<br />
K<br />
I K Sat<br />
I K<br />
V K Sat<br />
V = 0 V<br />
T<br />
V = -1V<br />
T<br />
Abbildung 5.15.: Schematische Darstellung e<strong>in</strong>es JFETs bei angelegter Kanal-Spannung<br />
Sperrbereich auf.<br />
VK > 0, wobei die Top-Gate-Spannung auf e<strong>in</strong>em konstanten Wert ge-<br />
genüber Dra<strong>in</strong> gehalten wird. Die l<strong>in</strong>ke Seite zeigt die Verarmungszonen<br />
(rot) im Kanal, die rechte Seite gibt die IK(VK)-Kennl<strong>in</strong>ien für die Top-<br />
Gate-Spannung VT = −1 V und VT = 0 V an (Abbildung nach [7]).<br />
Bei der Betrachtung der Abbildung 5.14 (a1 bis a3) zeigt sich, dass für konstante Source-<br />
Dra<strong>in</strong>-Spannungen VSD > 0,1 V sich die Lage der Abschnürpunkte im Kanal <strong>in</strong> Abhängig-<br />
keit der angelegten Seiten-Gate-Spannung VG verschiebt. Der zur ersten Abschnürung gehö-<br />
rende Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungswert VSD wächst mit zunehmender Seiten-Gate-Spannung<br />
VG an. Vergleicht man dies erneut, wie schon <strong>in</strong> Abschnitt 5.2 mit der Funktionsweise e<strong>in</strong>es<br />
JFETs, kann das unterschiedliche Verhalten der Kennl<strong>in</strong>ien <strong>in</strong> Sperrrichtung für die drei<br />
Seiten-Gate-Spannungen VG erklärt werden. Abbildung 5.15 zeigt die Verarmungszonen<br />
im Kanal e<strong>in</strong>es JFETs für e<strong>in</strong>e Top-Gate-Spannung von VT = −1 V. Über die Top-Gate-<br />
Spannung VT wird die Größe der Verarmungszone gesteuert, was <strong>in</strong> diesem Fall zu e<strong>in</strong>er<br />
Vergrößerung der Verarmungszone bei der Kanal-Spannung VK = 0 V führt. Somit ist<br />
die Abschnürung des Kanals schon für kle<strong>in</strong>ere Spannungen VK erreicht und die IK(VK)-<br />
Kennl<strong>in</strong>ie erreicht ihre Sättigung ebenfalls für kle<strong>in</strong>ere Spannungen VK. Die Sättigung<br />
äußert sich <strong>in</strong> dem konstanten Strom IK. Wählt man h<strong>in</strong>gegen e<strong>in</strong>e Top-Gate-Spannung<br />
von VT > 0 V, so verkürzen sich die Verarmungszonen bei der Kanal-Spannung VK = 0 V.<br />
Demzufolge ist e<strong>in</strong>e größere Spannung VK nötig um <strong>in</strong> die Abschnürung des Kanals und<br />
somit <strong>in</strong> die Sättigung zu gelangen.<br />
Bei der planaren Diode mit Seiten-Gates ist für die Seiten-Gate-Spannung VG = −1 V der<br />
Kanal bereits über e<strong>in</strong>e gewisse Länge e<strong>in</strong>geschnürt, so dass die Sättigung bereits erreicht<br />
ist und für positive Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungen ke<strong>in</strong> Stromfluss ISD zu Stande kommt. Für<br />
die Seiten-Gate-Spannung VG = +1 V ist der Kanal bei der Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungen<br />
VSD = 0 V weiter geöffnet als bei der Seiten-Gate-Spannung VG = 0 V, so dass die Ab-<br />
schnürung erst später e<strong>in</strong>setzt und somit schon e<strong>in</strong> höherer Strom fließt, der dann konstant<br />
wird. E<strong>in</strong> starker Anstieg des differentiellen Widerstandes für die Seiten-Gate-Spannung<br />
56<br />
V K