Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...
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6. Zusammenfassung<br />
Innerhalb dieser Diplomarbeit wurde der nichtl<strong>in</strong>eare Transport von Elektronen durch<br />
e<strong>in</strong>en ca 400 nm-breiten Kanal <strong>in</strong> e<strong>in</strong>em zweidimensionalen Elektronengas (2DEG) unter-<br />
sucht. Dieser Elektronen-Kanal besitzt e<strong>in</strong>en mittels Plasmaätzen hergestellten asymme-<br />
trischen Kanalrand, der wiederum zu e<strong>in</strong>er asymmetrischen Potentiallandschaft führt. Es<br />
wurden ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ien zwischen dem Source und Dra<strong>in</strong>-Kontakt aufgenommen, die<br />
e<strong>in</strong>e nichtl<strong>in</strong>eare Diodencharakteristik zeigten. Grundlage dieses nichtl<strong>in</strong>earen Transport-<br />
verhaltens ist e<strong>in</strong> Symmetriebruch im Kanalrand, der an den Seitenflächen e<strong>in</strong>en Potenti-<br />
alverlauf verursacht, der je nach Anlegen e<strong>in</strong>er externen Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung im Kanal<br />
zur Ladungsträgerverarmung (Kanalverschluss <strong>in</strong> Sperrrichtung) bzw. Ladungsträgeranrei-<br />
cherung (Kanalöffnung <strong>in</strong> Durchlassrichtung) führt. Diese planare Dioden-Struktur ist als<br />
self-switch<strong>in</strong>g device (SSD) bekannt und wurde dah<strong>in</strong> weiterentwickelt, dass die nichtl<strong>in</strong>eare<br />
ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ie zusätzlich mittels Anlegen e<strong>in</strong>er Spannung an zwei Seiten-Gates e<strong>in</strong>e<br />
Durchstimmbarkeit des Schwell- und Sperrstromes ermöglicht. Die Diodencharakteristik<br />
wird im Gegensatz zu herkömmlichen p-n oder Schottky-Dioden durch die Probengeome-<br />
trie erreicht und erlaubt daher auch die zusätzlich erreichte E<strong>in</strong>stellbarkeit der nichtl<strong>in</strong>earen<br />
Kennl<strong>in</strong>ie.<br />
Beg<strong>in</strong>nend wurden Messungen an e<strong>in</strong>er planaren Diode ohne Seiten-Gates (SSD) über e<strong>in</strong>en<br />
großen Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungsbereich durchgeführt, um diese mit den bereits bekannten<br />
Arbeiten von Song et al. zu vergleichen. Die Ergebnisse zeigen e<strong>in</strong>e gute Übere<strong>in</strong>stimmung<br />
im nichtl<strong>in</strong>earen Kennl<strong>in</strong>ienverhalten. Sowohl der Sperr- als auch der Durchlassbereich der<br />
Diode s<strong>in</strong>d identifizierbar und entsprechen dem geschlossenen oder geöffneten 2DEG-Kanal,<br />
der erfolgreich mit dem Modell der Verarmungszonen erklärt werden kann. Die Kennl<strong>in</strong>ien<br />
zeigen nahezu identisches Verhalten zu e<strong>in</strong>em Junction-Field-Effekt Transistor (JFET).<br />
Innerhalb des Hauptteils dieser Arbeit wurde e<strong>in</strong>e neue planare Dioden-Struktur mit<br />
Seiten-Gates entwickelt, prozessiert und vermessen, die die angesprochene Durchstimmbar-<br />
keit des Schwell- und Sperrstromes ermöglicht. Es wurden ISD(VSD)-Kennl<strong>in</strong>ien aufgenom-<br />
men, wobei zusätzlich zur angelegten Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung die Seiten-Gate-Spannung<br />
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