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Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...

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5.4. Interpretation der Sperrung im negativen Spannungs<strong>in</strong>tervall<br />

ves Potential gegenüber der Seiten-Gate-Spannung VG = VSD<br />

2 besitzt und wechselt deshalb<br />

mit dem Vorzeichen der angelegten Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung VSD.<br />

Schlussfolgerung<br />

Unter Berücksichtigung dieser beiden Kennl<strong>in</strong>ien ist es möglich, Rückschlüsse auf die Ursa-<br />

chen des Anstiegs des differentiellen Widerstandes im negativen Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungs-<br />

bereich der Diode zu ziehen. Der Widerstandsanstieg der Kennl<strong>in</strong>ie der Probe IV (Abb.<br />

5.19) kann mit dem ersten Widerstandsanstieg der planaren Diode mit und ohne Seiten-<br />

Gates verglichen werden. Die Kennl<strong>in</strong>ie der Probe I (Abb. 5.20) mit e<strong>in</strong>em halbem Source-<br />

Dra<strong>in</strong>-Potential der Seiten-Gates zeigt sogar beide Widerstandsanstiege und dies sowohl<br />

bei positiver als auch negativer Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung.<br />

Für den ersten Widerstandsanstieg (z. B. Punkt BC <strong>in</strong> Abb 5.9) können aufgrund der<br />

Struktur der Probe IV (Abb. 5.19) ke<strong>in</strong>e E<strong>in</strong>flüsse durch Modulation der Verarmungszo-<br />

nen existieren, da aufgrund der fehlenden Seiten-Gates ke<strong>in</strong>e Variation der Kanalbreiten zu<br />

erwarten ist und die Fläche des 2DEGs konstant bleibt. H<strong>in</strong>gegen könnten mögliche Stör-<br />

stellen und Oberflächenzustände an den Ätzkanten, die auch eventuell <strong>in</strong> großer Zahl durch<br />

das Plasmaätzen <strong>in</strong>duziert wurden, die Beweglichkeit des 2DEGs stark e<strong>in</strong>schränken. Die-<br />

se Störstellen werden erst ab e<strong>in</strong>er bestimmten Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung VSD geladen und<br />

zeigen erst dann ihren E<strong>in</strong>fluss auf die Ladungsträger des 2DEGs. Für e<strong>in</strong>e Verr<strong>in</strong>gerung<br />

der Ladungsträgerkonzentraion n, die ebenso zu e<strong>in</strong>em Anstieg des differentiellen Wider-<br />

standes führen könnte, zeigen sich ke<strong>in</strong>e H<strong>in</strong>weise.<br />

Für e<strong>in</strong>en Effekt, der von der Höhe der Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung VSD und nicht von der<br />

Höhe des Source-Dra<strong>in</strong>-Stromes ISD abhängt, spricht der Verlauf der drei Kennl<strong>in</strong>ien der<br />

Seiten-Gate-Spannungen VG = −1 V, VG = 0 V und VG = +1 V im Bereich C der Ab-<br />

bildungen 5.16 und 5.17. Die Kennl<strong>in</strong>ie der Seiten-Gate-Spannung VG = −1 V geht nach<br />

Überschreiten ihres Schwellwertes direkt <strong>in</strong> den Bereich des differentiellen Widerstandes<br />

dRC über, den die anderen beiden Kennl<strong>in</strong>ien erst nach e<strong>in</strong>em Widerstandsanstieg von<br />

dRB auf dRC im Bereich e<strong>in</strong>er Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung von VSD ≈ ±0,1 V erlangen. Auf-<br />

grund der unterschiedlichen Ströme am Punkt dieser Widerstandsanstiege (von VG = 0 V<br />

und VG = +1 V), ist der Anstieg nicht durch den Strom gegeben.<br />

Für den zweiten Widerstandsanstieg liegt der Verdacht sehr nahe, dass die Seiten-Gates<br />

aufgrund von Leckströmen über die geätzten Bereiche h<strong>in</strong>weg nicht <strong>in</strong> der Lage s<strong>in</strong>d, ihre<br />

vorgegebenen Seiten-Gate-Spannungen VG zu halten.<br />

Bestärkt wird diese Vermutung durch die Lage der Anstiege der differentiellen Widerstände<br />

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