Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...
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5.4. Interpretation der Sperrung im negativen Spannungs<strong>in</strong>tervall<br />
ves Potential gegenüber der Seiten-Gate-Spannung VG = VSD<br />
2 besitzt und wechselt deshalb<br />
mit dem Vorzeichen der angelegten Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung VSD.<br />
Schlussfolgerung<br />
Unter Berücksichtigung dieser beiden Kennl<strong>in</strong>ien ist es möglich, Rückschlüsse auf die Ursa-<br />
chen des Anstiegs des differentiellen Widerstandes im negativen Source-Dra<strong>in</strong>-Spannungs-<br />
bereich der Diode zu ziehen. Der Widerstandsanstieg der Kennl<strong>in</strong>ie der Probe IV (Abb.<br />
5.19) kann mit dem ersten Widerstandsanstieg der planaren Diode mit und ohne Seiten-<br />
Gates verglichen werden. Die Kennl<strong>in</strong>ie der Probe I (Abb. 5.20) mit e<strong>in</strong>em halbem Source-<br />
Dra<strong>in</strong>-Potential der Seiten-Gates zeigt sogar beide Widerstandsanstiege und dies sowohl<br />
bei positiver als auch negativer Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung.<br />
Für den ersten Widerstandsanstieg (z. B. Punkt BC <strong>in</strong> Abb 5.9) können aufgrund der<br />
Struktur der Probe IV (Abb. 5.19) ke<strong>in</strong>e E<strong>in</strong>flüsse durch Modulation der Verarmungszo-<br />
nen existieren, da aufgrund der fehlenden Seiten-Gates ke<strong>in</strong>e Variation der Kanalbreiten zu<br />
erwarten ist und die Fläche des 2DEGs konstant bleibt. H<strong>in</strong>gegen könnten mögliche Stör-<br />
stellen und Oberflächenzustände an den Ätzkanten, die auch eventuell <strong>in</strong> großer Zahl durch<br />
das Plasmaätzen <strong>in</strong>duziert wurden, die Beweglichkeit des 2DEGs stark e<strong>in</strong>schränken. Die-<br />
se Störstellen werden erst ab e<strong>in</strong>er bestimmten Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung VSD geladen und<br />
zeigen erst dann ihren E<strong>in</strong>fluss auf die Ladungsträger des 2DEGs. Für e<strong>in</strong>e Verr<strong>in</strong>gerung<br />
der Ladungsträgerkonzentraion n, die ebenso zu e<strong>in</strong>em Anstieg des differentiellen Wider-<br />
standes führen könnte, zeigen sich ke<strong>in</strong>e H<strong>in</strong>weise.<br />
Für e<strong>in</strong>en Effekt, der von der Höhe der Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung VSD und nicht von der<br />
Höhe des Source-Dra<strong>in</strong>-Stromes ISD abhängt, spricht der Verlauf der drei Kennl<strong>in</strong>ien der<br />
Seiten-Gate-Spannungen VG = −1 V, VG = 0 V und VG = +1 V im Bereich C der Ab-<br />
bildungen 5.16 und 5.17. Die Kennl<strong>in</strong>ie der Seiten-Gate-Spannung VG = −1 V geht nach<br />
Überschreiten ihres Schwellwertes direkt <strong>in</strong> den Bereich des differentiellen Widerstandes<br />
dRC über, den die anderen beiden Kennl<strong>in</strong>ien erst nach e<strong>in</strong>em Widerstandsanstieg von<br />
dRB auf dRC im Bereich e<strong>in</strong>er Source-Dra<strong>in</strong>-Spannung von VSD ≈ ±0,1 V erlangen. Auf-<br />
grund der unterschiedlichen Ströme am Punkt dieser Widerstandsanstiege (von VG = 0 V<br />
und VG = +1 V), ist der Anstieg nicht durch den Strom gegeben.<br />
Für den zweiten Widerstandsanstieg liegt der Verdacht sehr nahe, dass die Seiten-Gates<br />
aufgrund von Leckströmen über die geätzten Bereiche h<strong>in</strong>weg nicht <strong>in</strong> der Lage s<strong>in</strong>d, ihre<br />
vorgegebenen Seiten-Gate-Spannungen VG zu halten.<br />
Bestärkt wird diese Vermutung durch die Lage der Anstiege der differentiellen Widerstände<br />
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