Steuerbare Gleichrichtung in Halbleiter-Nanostrukturen - Universität ...
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3.3. Probenpräparation<br />
gewährleistet e<strong>in</strong>en exakt def<strong>in</strong>ierten Bereich des 2DEGs, da bei den vorhandenen Hete-<br />
rostukturen die Elektronengase nur <strong>in</strong> Tiefen von maximal 80 nm liegen. Die verwendete<br />
Ätzlösung besteht aus 94 %-iger Schwefelsäure, 31 %-igem Wasserstoffperoxid und Wasser<br />
im Verhältnis 3:1:100. Die Ätzrate beträgt ca. 1 nm/s [40].<br />
3.3.4. Aufdampfen und E<strong>in</strong>legieren<br />
Um die Ohmschen Kontakte der Nanostruktur zu erzeugen, werden die Proben <strong>in</strong> e<strong>in</strong>e<br />
Aufdampfanlage des Typs BOC Edwards e<strong>in</strong>geschleust. Mit der Anlage s<strong>in</strong>d zwei Arten<br />
der Verdampfung möglich. Beim Elektronenstrahlverdampfen wird durch e<strong>in</strong>en mit Hilfe<br />
von Magnetfeldern gelenkten und fokussierten Elektronenstrahl z.B. Titan, Nickel-Chrom<br />
oder Plat<strong>in</strong> <strong>in</strong> e<strong>in</strong>em Keramiktiegel verdampft. Beim thermischen Verdampfen wird durch<br />
Stromzufuhr e<strong>in</strong> Schiffchen mit z.B. Gold-Germaniun oder Gold erhitzt und das Material<br />
somit verdampft. Bei dem Abscheiden der metallischen Schichten auf der Probe s<strong>in</strong>d zwei<br />
Parameter von Bedeutung. Zum E<strong>in</strong>en muss der Druck <strong>in</strong> der Aufdampfanlage unterhalb<br />
von 3·10 −6 mbar liegen, damit die aufgebrachten Schichten nicht verunre<strong>in</strong>igt werden. Zum<br />
Anderen wird auf e<strong>in</strong>e konstante Aufdampfrate geachtet, damit e<strong>in</strong> homogenes Schicht-<br />
wachstum gewährleistet werden kann. Für die Herstellung der Ohmschen Kontakte wird<br />
bei diesen Heterostrukturen zuerst e<strong>in</strong>e dünne, ca. 10 nm dicke Schicht Nickel als Haftver-<br />
mittler aufgedampft und anschließend e<strong>in</strong>e Gold/Germanium-Schicht, deren Dicke auf die<br />
Tiefe des 2DEG abgestimmt wird. Die Dicke der AuGe-Schicht entspricht der Tiefe des<br />
2DEG. Zum Schluss wird e<strong>in</strong>e 50 nm dicke Schicht Gold als Kontaktierungsfläche aufge-<br />
bracht. Nach dem Bedampfen folgt der Lift-Off. Ähnlich wie <strong>in</strong> den Re<strong>in</strong>igungsschritten<br />
werden unter Zuhilfenahme des Lösungsmittels Aceton die Lackschicht und die sich darauf<br />
bef<strong>in</strong>denden, aufgedampften Metallschichten entfernt. Somit bleiben nur die Flächen für<br />
die Ohmschen Kontakte erhalten. Danach wird durch E<strong>in</strong>legierung e<strong>in</strong> Kontakt zwischen<br />
Goldoberfläche und 2DEG hergestellt.<br />
Dies geschieht durch schrittweise Erwärmung der Probe auf e<strong>in</strong>er Heizplatte unter e<strong>in</strong>er<br />
Schutzgasatmosphäre 3 . Durch Temperaturen bis zu 450 ◦ C können die Germanium-Atome<br />
der aufgedampften AuGe-Schicht (88% Au, 12%Ge) <strong>in</strong> die GaAs-Schicht der Heterostruk-<br />
tur diffundieren und dort e<strong>in</strong>en Austausch der Gallium-Atome bewirken. Die Germanium-<br />
Atome wirken als Donatoren und bei e<strong>in</strong>er Dotierungsdichte von ca. 10 19 cm −3 wird e<strong>in</strong>e<br />
leitfähige Verb<strong>in</strong>dung zwischen Goldoberfläche und 2DEG geschaffen [36].<br />
3 Schutzgas Arcal 15: 94% Ar und 6% H2<br />
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