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2.4.1.1. Aluminio de partida
Capitulo 2 – Parte Experimental
Como material de partida se emplearon placas de aluminio de muy alta pureza
(99.999%, Advent Research Materials Ltd., Inglaterra).
2.4.1.2. Preparación del Al
a) Limpieza. El proceso de limpieza de las láminas de Al consiste en la eliminación de
residuos superficiales (provenientes en su mayoría del laminado del Al) y se lleva a cabo
mediante sucesivos lavados ultrasónicos en acetona, isopropanol, agua y etanol durante
4 minutos en cada uno.
b) Electropulido. El objetivo de este primer paso es partir de una superficie plana al
momento de llevar a cabo la primera anodización, debido a que la uniformidad en el
proceso de anodización en la superficie beneficia el ordenamiento poroso. Para eliminar
la rugosidad superficial, se procedió al pulido electroquímico (electropulido) del Al de
partida. Para ello, se empleó el montaje esquematizado en la figura 2.4.1.2.1. El mismo
consiste en una celda electroquímica similar a la empleada en los procesos de
anodización posteriores en los que la lámina de aluminio, que actúa como ánodo, está en
contacto con una solución electrolítica de ácido perclórico (HClO4) y etanol (C2H5OH) en
proporción volumétrica de 25:75. Se empleó una rejilla de Pt como cátodo y agitación
magnética proporcionada por una platina calefactora. Los parámetros óptimos de
electropulido en el montaje empleado son los siguientes:
· Voltaje: 20 V
· Temperatura: placa calefactora a 50 °C y electrolito a temperatura ambiente.
· Agitación: 150 rpm.
· Tiempo de reacción: dependiendo de la corriente que pase por el sistema, entre 3 y 4
min.
· Densidad de corriente: ~ 0,1 A/cm2
Juan Martín Giussi – 2012 97