Spektromikroskopische Untersuchungen an ... - OPUS Würzburg
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32 3 Einführung in die untersuchten Materialsysteme<br />
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Abbildung 3.1:<br />
Strukturformel von PTCDA.<br />
Bei Raumtemperatur besitzt PTCDA einen Dampfdruck von etwa 10 −20 mbar,<br />
die Moleküle sind bis etwa 790 K thermisch stabil. Die Präparation von PTCDA-<br />
Schichten mittels Sublimation gestaltet sich somit im UHV als besonders einfach.<br />
Wie bei vielen <strong>an</strong>deren org<strong>an</strong>ischen Molekülen ist auch beim PTCDA Polymorphismus<br />
zu beobachten, das heißt, dass die Moleküle in der kondensierten Phase in<br />
mehreren Modifikationen kristallisieren können [45]. Die beiden Modifikationen<br />
des PTCDA (α, β) unterscheiden sich dabei im Wesentlichen in der Stapelfolge der<br />
einzelnen Lagen.<br />
Es wurden bereits <strong>Untersuchungen</strong> <strong>an</strong> PTCDA-Filmen auf den verschiedensten Substraten<br />
durchgeführt. Beispielhaft seien gen<strong>an</strong>nt Glas und hochgeordnetes Graphit<br />
[46], Kupfer [47], Nickel sowie Silizium [48] und vor allem Gold und Silber.<br />
Die Letztgen<strong>an</strong>nten wurden dabei besonders intensiv untersucht und stellen auch<br />
die im Rahmen dieser Arbeit benutzten Substrate dar. Um einem Verständnis der<br />
grundlegenden Mech<strong>an</strong>ismen näher zu kommen, wurde zunächst die „einfache“<br />
Ag(111)-Oberfläche gewählt. Auf ihr können PTCDA-Filme von sehr hoher kristalliner<br />
Qualität adsorbiert werden [49].<br />
3.1.1 PTCDA auf Ag(111)<br />
Von PTCDA-Filmen auf Ag(111) ist bek<strong>an</strong>nt, dass die Moleküle der Monolage über<br />
das delokalisierte π-System chemisorptiv <strong>an</strong> das Ag-Substrat gebunden sind [50, 51].