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Spektromikroskopische Untersuchungen an ... - OPUS Würzburg

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32 3 Einführung in die untersuchten Materialsysteme<br />

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Abbildung 3.1:<br />

Strukturformel von PTCDA.<br />

Bei Raumtemperatur besitzt PTCDA einen Dampfdruck von etwa 10 −20 mbar,<br />

die Moleküle sind bis etwa 790 K thermisch stabil. Die Präparation von PTCDA-<br />

Schichten mittels Sublimation gestaltet sich somit im UHV als besonders einfach.<br />

Wie bei vielen <strong>an</strong>deren org<strong>an</strong>ischen Molekülen ist auch beim PTCDA Polymorphismus<br />

zu beobachten, das heißt, dass die Moleküle in der kondensierten Phase in<br />

mehreren Modifikationen kristallisieren können [45]. Die beiden Modifikationen<br />

des PTCDA (α, β) unterscheiden sich dabei im Wesentlichen in der Stapelfolge der<br />

einzelnen Lagen.<br />

Es wurden bereits <strong>Untersuchungen</strong> <strong>an</strong> PTCDA-Filmen auf den verschiedensten Substraten<br />

durchgeführt. Beispielhaft seien gen<strong>an</strong>nt Glas und hochgeordnetes Graphit<br />

[46], Kupfer [47], Nickel sowie Silizium [48] und vor allem Gold und Silber.<br />

Die Letztgen<strong>an</strong>nten wurden dabei besonders intensiv untersucht und stellen auch<br />

die im Rahmen dieser Arbeit benutzten Substrate dar. Um einem Verständnis der<br />

grundlegenden Mech<strong>an</strong>ismen näher zu kommen, wurde zunächst die „einfache“<br />

Ag(111)-Oberfläche gewählt. Auf ihr können PTCDA-Filme von sehr hoher kristalliner<br />

Qualität adsorbiert werden [49].<br />

3.1.1 PTCDA auf Ag(111)<br />

Von PTCDA-Filmen auf Ag(111) ist bek<strong>an</strong>nt, dass die Moleküle der Monolage über<br />

das delokalisierte π-System chemisorptiv <strong>an</strong> das Ag-Substrat gebunden sind [50, 51].

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