PCT/2000/51 - World Intellectual Property Organization

51/2000
21 Dec/déc 2000 PCT Gazette - Section I - Gazette du PCT 19157
(43) 21 Dec/déc 2000 (21.12.2000)
(54) Fe-Ni BASED MATERIAL FOR
SHADOW MASK
MATERIAU A BASE DE FE-NI POUR
MASQUE PERFOR
(71) NIPPON YAKIN KOGYO CO., LTD.
[JP/JP]; 5-8, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku,
Tokyo 104-8365 (JP).
(for all designated States except / pour tous
les États désignés sauf US)
(72, 75) ITOH, Tatsuya [JP/JP]; Nippon Yakin
Kogyo Co., Ltd., Technical Research
Center, 4-2, Kojima-cho, Kawasaki-ku,
Kawasaki-shi, Kanagawa 210-8558 (JP).
OMORI, Tsutomu [JP/JP]; Nippon Yakin
Kogyo Co., Ltd., Technical Research
Center, 4-2, Kojima-cho, Kawasaki-ku,
Kawasaki-shi, Kanagawa 210-8558 (JP).
(74) OGAWA, Junzo; Kobikikan Ginza Building,
8-9, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 104-
0061 (JP).
(81) CN KR US.
(84) EP (AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR
IE IT LU MC NL PT SE).
(51) 7 C22C 38/00
(11) WO 00/77270 (13) A1
(21) PCT/JP00/03975
(22) 16 Jun/juin 2000 (16.06.2000)
(25) ja (26) ja
(30) 11/169470 16 Jun/juin 1999 JP
(16.06.1999)
(43) 21 Dec/déc 2000 (21.12.2000)
(54) HIGHLY CLEANED STEEL
ACIER FORTEMENT NETTOYE
(71) NIPPON STEEL CORPORATION
[JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku,
Tokyo 100-8071 (JP).
(for all designated States except / pour tous
les États désignés sauf US)
(72, 75) YAMADA, Wataru [JP/JP]; Nippon
Steel Corporation Kimitsu Works, 1, Kimitsu,
Kimitsu City, Chiba 299-1193 (JP).
NISHIDA, Seiki [JP/JP]; Nippon Steel Corporation
Kimitsu Works, 1, Kimitsu, Kimitsu
City, Chiba 299-1193 (JP). SUGIMARU,
Satoshi [JP/JP]; Nippon Steel Corporation
Kimitsu Works, 1, Kimitsu, Kimitsu City,
Chiba 299-1193 (JP). UEYAMA, Shinjiro
[JP/JP]; Nippon Steel Corporation Kimitsu
Works, 1, Kimitsu, Kimitsu City, Chiba
299-1193 (JP). YATABE, Hiroshi [JP/JP];
Nippon Steel Corporation Kimitsu Works, 1,
Kimitsu, Kimitsu City, Chiba 299-1193 (JP).
(74) ISHIDA, Takashi et al. / etc.; A. Aoki,
Ishida & Associates, Toranomon 37 Mori
Building, 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku,
Tokyo 105-8423 (JP).
(81) BR CA CN JP KR US.
(84) EP (AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR
IE IT LU MC NL PT SE).
(51) 7 C22C 38/00, 38/54
(11) WO 00/77271 (13) A1
(21) PCT/JP00/03977
(22) 16 Jun/juin 2000 (16.06.2000)
(25) ja (26) ja
(30) 11/169469 16 Jun/juin 1999
(16.06.1999)
JP
(43) 21 Dec/déc 2000 (21.12.2000)
(54) HIGH CARBON STEEL WIRE ROD
EXCELLENT IN DRAWABILITY AND
FATIGUE RESISTANCE AFTER WIRE
DRAWING
TIGE DE FIL D’ACIER A TENEUR
ELEVEE EN CARBONE PRESENTANT
UNE EXCELLENTE CAPACITE D’ETI-
RAGE ET DE RESISTANCE A LA
FATIGUE APRES ETIRAGE DU FIL
(71) NIPPON STEEL CORPORATION
[JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku,
Tokyo 100-8071 (JP).
(for all designated States except / pour tous
les États désignés sauf US)
(72, 75) YAMADA, Wataru [JP/JP]; Nippon
Steel Corporation Kimitsu Works, 1, Kimitsu,
Kimitsu City, Chiba 299-1193 (JP).
NISHIDA, Seiki [JP/JP]; Nippon Steel Corporation
Kimitsu Works, 1, Kimitsu, Kimitsu
City, Chiba 299-1193 (JP). SUGIMARU,
Satoshi [JP/JP]; Nippon Steel Corporation
Kimitsu Works, 1, Kimitsu, Kimitsu City,
Chiba 299-1193 (JP). HIKITA, Naoshi
[JP/JP]; Nippon Steel Corporation, 6-3,
Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo
100-8071 (JP). TAKAHASHI, Hiromi
[JP/JP]; Nippon Steel Corporation Kimitsu
Works, 1, Kimitsu, Kimitsu City, Chiba
299-1193 (JP).
(74) ISHIDA, Takashi et al. / etc.; A. Aoki,
Ishida & Associates, Toranomon 37 Mori
Building, 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku,
Tokyo 105-8423 (JP).
(81) BR CA CN JP KR US.
(84) EP (AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR
IE IT LU MC NL PT SE).
(51) 7 C23C 2/38, 2/40, 2/24, 6/00
(11) WO 00/77272
(21) PCT/SE00/01168
(13) A1
(22) 6 Jun/juin 2000 (06.06.2000)
(25) en (26) en
(30) 9902201-4 11 Jun/juin 1999
(11.06.1999)
SE
(43) 21 Dec/déc 2000 (21.12.2000)
(54) A METHOD AND A DEVICE FOR AP-
PLYING A COATING ONTO AN ELON-
GATED OBJECT
PROCEDE ET DISPOSITIF DESTINES
A L’APPLICATION D’UN REVETE-
MENT SUR UN OBJET ALLONGE
(71) ABB AB [SE/SE]; S-721 83 Västerås (SE).
(for all designated States except / pour tous
les États désignés sauf US)
(72, 75) EBRAHIM, Saeid [SE/SE]; Valkyriavägen
10, S-174 55 Sundbyberg (SE).
ERIKSSON, Jan, Erik [SE/SE]; Egils väg
60, S-723 55 Västerås (SE). TALLBÄCK,
Göte [SE/SE]; Bandygatan 12, S-722 40
Västerås (SE).
(74) BERGLUND, Stefan et al. / etc.; Bjerkéns
Patentbyrå KB, Östermalmsgatan 58, S-114
50 Stockholm (SE).
(81) AE AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY
CA CH CN CR CU CZ CZ (Utility model /
modèle d’utilité) DE DE (Utility model / modèle
d’utilité) DK DK (Utility model / modèle
d’utilité) DM EE EE (Utility model / modèle
d’utilité) ES FI FI (Utility model / modèle
d’utilité) GBGDGEGHGMHRHUIDIL
IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS
LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX
NO NZ PL PT RO RU SD SE SG SI SK SK
(Utility model / modèle d’utilité) SLTJTM
TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZW.
(84) AP (GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ
UG ZW); EA (AM AZ BY KG KZ MD RU
TJ TM); EP (AT BE CH CY DE DK ES FI FR
GB GR IE IT LU MC NL PT SE); OA (BF BJ
CF CG CI CM GA GN GW ML MR NE SN
TD TG).
(51) 7 C23C 14/00, 14/34
(11) WO 00/77273 (13) A1
(21) PCT/US00/40192
(22) 8 Jun/juin 2000 (08.06.2000)
(25) en (26) en
(30) 09/330,883 11 Jun/juin 1999 US
(11.06.1999)
(43) 21 Dec/déc 2000 (21.12.2000)
(54) INVERTED FIELD CIRCULAR MAG-
NETRON SPUTTERING DEVICE
DISPOSITIF DE PULVERISATION CA-
THODIQUE A MAGNETRON CIRCU-
LAIRE A CHAMP INVERSE
(71) SCIVAC [US/US]; 871 Fox Lane, San Jose,
CA 95131 (US).
(for all designated States except / pour tous
les États désignés sauf US)
(72, 75) ARAGON, Steven [US/US]; 3864 Via
Cristobal, Campbell, CA 95008 (US).
(74) HAMRICK, Claude, A., S. et al. / etc.; Oppenheimer
Wolff & Donnelly LLP, 1400 Page
Mill Road, Palo Alto, CA 94304 (US).
(81) AE AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BY
CA CH CN CR CU CZ DE DK DM EE ES
FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS
JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU
LV MD MG MK MN MW MX NO NZ PL PT
RO RU SD SE SG SI SK SL TJ TM TR TT
UA UG US UZ VN YU ZA ZW.
(84) AP (GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ
UG ZW); EA (AM AZ BY KG KZ MD RU
TJ TM); EP (AT BE CH CY DE DK ES FI FR
GB GR IE IT LU MC NL PT SE); OA (BF BJ
CF CG CI CM GA GN GW ML MR NE SN
TD TG).
Published / Publiée :(c)
(51) 7 C23C 14/54, 14/34, 14/50
(11) WO 00/77274
(21) PCT/DE00/01986
(13) A1
(22) 16 Jun/juin 2000 (16.06.2000)
(25) de (26) de
(30) 199 28 319.2 16 Jun/juin 1999
(16.06.1999)
DE
(43) 21 Dec/déc 2000 (21.12.2000)
(54) METHOD AND DEVICE FOR COAT-
ING A SUBSTRATE AT A HIGH TEM-
PERATURE BY MEANS OF SPUTTER-
ING
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR RE-
VETIR UN SUBSTRAT A HAUTE TEM-
PERATURE PAR PULVERISATION CA-
THODIQUE