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Ebene Keramiksubstrate und neue Montagetechnologien zum ...

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Kapitel 2<br />

Tabelle 8: Fassungsstrukturen für die Strahlkollimationsbaugruppe im LTCC-Substrat<br />

Laserdiode Kollimations-, Fokuslinse Zylinderlinsenarrays<br />

Mech. Anschlag 1 - Auflagekanten Auflageebene<br />

Y<br />

X<br />

Anschlagebenen<br />

Z<br />

Ausführung<br />

Kavität<br />

Bezugsebene<br />

Auflagekanten<br />

AgPd<br />

Geometrische<br />

Parameter<br />

gesperrte<br />

translatorische<br />

Freiheitsgrade<br />

strukturiert in<br />

Folienlage Nr.<br />

Kavität<br />

Auflagewinkel 41.81°, Kantenabstand<br />

2.236 mm<br />

15 µm AgPd, zwei<br />

Streifen<br />

- X, Y Y<br />

1 - 11 7 (Referenzebene) 7 (Referenzebene)<br />

Strukturierung Stanzen Stanzen Dickschicht<br />

Positionsabweichung<br />

des Bauelements am<br />

mechanischen Anschlag<br />

(theoretisch)<br />

Mech. Anschlag 2<br />

Ausführung,<br />

geometrische<br />

Parameter<br />

gesperrte<br />

translatorische<br />

Freiheitsgrade<br />

strukturiert in<br />

Folienlage Nr.<br />

Strukturierung<br />

Lagetoleranz des<br />

Bauelements<br />

(theoretisch)<br />

-<br />

Kollim.linse: ∆ Y = -76 µm (δ R = -50 µm)<br />

Fokuslinse: ∆ Y = ±22 µm (δ R =±15 µm)<br />

∆ Y = -35 µm (R K = 50 µm)<br />

∆ Y = ±11 µm (δ A = ±20 µm Stanzgenauigkeit<br />

<strong>und</strong> Sinterschrumpf)<br />

Anschlagebenen<br />

Z-Abstand der <strong>Ebene</strong>n 2.65 mm<br />

Z<br />

8-11<br />

Stanzen<br />

∆ Z = ±10 µm (Stanzgenauigkeit)<br />

∆ Z = ±8 µm (Sinterschrumpf)<br />

∆ Y = ±5 µm<br />

<strong>Ebene</strong> <strong>Keramiksubstrate</strong> <strong>und</strong> <strong>neue</strong> <strong>Montagetechnologien</strong> <strong>zum</strong> Aufbau hybrid-optischer Systeme 62

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