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Ebene Keramiksubstrate und neue Montagetechnologien zum ...

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Kapitel 2<br />

Zur Charakterisierung der Fassungsstrukturen wurden die Abstände der Auflagekanten<br />

sowie der Anschlagebenen für Kollimations- <strong>und</strong> Fokuslinse mit einem Videomikroskop<br />

<strong>und</strong> angeschlossener Bildverarbeitung vermessen.<br />

X<br />

2.65mm<br />

X<br />

2.65mm<br />

Z<br />

Z<br />

Bild 41:<br />

Messbild LTCC (links) <strong>und</strong> Al 2 O 3 (rechts), 2.5fache Vergrößerung<br />

Aus der 2.5fachen Vergrößerung des Mikroskops resultiert eine rechnerische Pixelauflösung<br />

von 5.5 µm. Zur Abschätzung der Messgenauigkeit ist nach [NEU-96] im<br />

wesentlichen die Beurteilung der Antastunsicherheit <strong>und</strong> der Maßabweichung notwendig.<br />

Die Maßabweichung als Verkörperung systematischer Messfehler beschreibt<br />

dabei die Summe aus Fehlern des Maßstabsfaktors, der Verzeichnung des Objektivs<br />

<strong>und</strong> der Neigung zwischen Objekt- <strong>und</strong> Messebene.<br />

1 3 5<br />

0<br />

LTCC-Substrat Nr.<br />

-20<br />

-40<br />

-60<br />

-80<br />

-100<br />

-120<br />

-140<br />

δ A / µm<br />

-160<br />

δ A / µm Fok.linse<br />

Reihe1<br />

Koll.linse<br />

Reihe2<br />

40<br />

30<br />

20<br />

10<br />

Al 2 O 3 -Substrat Nr.<br />

0<br />

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10<br />

1 2 3 4 5 6<br />

10<br />

5<br />

LTCC-Substrat Nr.<br />

0<br />

-5<br />

-10<br />

-15<br />

-20<br />

-25<br />

δ A / µm<br />

20<br />

δ A / µm<br />

15<br />

10<br />

5<br />

0<br />

-5<br />

Al 2 O 3 -Substrat Nr.<br />

-10<br />

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10<br />

Bild 42:<br />

Abstandsmessung Auflagekanten (links), Anschlagebenen (rechts)<br />

Bei der Kalibrierung des Mikroskops wurde die Messunsicherheit bezüglich der Maß-<br />

<strong>Ebene</strong> <strong>Keramiksubstrate</strong> <strong>und</strong> <strong>neue</strong> <strong>Montagetechnologien</strong> <strong>zum</strong> Aufbau hybrid-optischer Systeme 68

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