4. Halbleiterdetektoren - HEPHY

4.2.2Herstellung segmentierter Si-Detektoren — Lithographie – 1★ Strahlungssensitive Lacke (Photolacke, “Resists”) verändern ihre Löslichkeitin einer Entwicklersubstanz je nach vorheriger Bestrahlung. ★ Nach Art der zum “Belichten” verwendeten Strahlung unterscheidet man zw.Elektronen-, Ionen- oder Röntgenstrahllithographie sowie Photolithographie(sichtbares oder UV-Licht).★ Je nach Belichtungsverhalten werden die Lacke in Positiv- und Negativresists(“Image Reversal Resist”) unterteilt. – Positivlacke: Die bestrahlten Teile lösen sich beim anschließendenEntwickeln auf, die unbestrahlten Bereiche bleiben als Maske stehen. – Negativlacke: Der Lack ist ursprünglich im Entwickler löslich, durchBestrahlung härtet er aber aus. Es bleiben also die bestrahlten Teileals Maske stehen.★ In der Detektortechnologie verwendet man meist Positivlacke undphotolithographische Belichtung.M. Krammer: Detektoren, SS 09 Halbleiterdetektoren 68