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Projektbereich D Lugscheider, Erich 383 Projektbereich D ... - SFB 289

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2.3 Durchführung und Ergebnisse<br />

<strong>Projektbereich</strong> D<br />

<strong>Lugscheider</strong>, <strong>Erich</strong><br />

397<br />

Im Folgenden werden die Forschungsergebnisse der Schichttechnologien und Fügeverfahren,<br />

wie PVD-, TS- und Löttechnologie, dargestellt. Zunächst werden die Ergebnisse<br />

der Oberflächenanalytik präsentiert. Anschließend folgen die Darstellungen der<br />

anwendungsnahen Versuche und der Modelltest, sowie den Versuchen mit realen<br />

Bauteilen.<br />

2.3.1 Oberflächenanalytik<br />

Im folgenden Kapitel wird die Entwicklung der kristallinen ZrO2- und Al2O3-Schichten<br />

beschrieben. Weiterhin wird kurz auf die Entwicklung des Systems MgAl2O4 eingegangen<br />

und die Gründe erläutert, warum die Entwicklung nicht zielführend war.<br />

2.3.1.1 PVD<br />

Forschung und Entwicklung kristalliner MgAl2O4-Schichten mittels MSIP-PVD-Prozess<br />

unter Einsatz der Pulstechnik<br />

Mit MgAl2O4 sollte zusätzlich zu den binären ZrO2- und Al2O3-Systemen ein komplexeres<br />

System in die Entwicklung miteinbezogen werden. Für die Abscheidung dieses<br />

Schichtsystems mittels MSIP-PVD-Pulsprozess können im wesentlichen zwei Verfahrensvarianten<br />

gewählt werden. Das Schichtsystem kann reaktiv mittels metallischer Targets<br />

und nichtreaktiv mittels keramischer Targets abgeschieden werden. Bei der Verwendung<br />

von metallischen Targets sind zwei Herstellungsmethoden möglich. Einerseits die<br />

sintertechnische Herstellung und andererseits die Herstellung gepfropfter Targets. Da eine<br />

Phase MgAl2 nicht existiert, ist eine schmelzmetallurgische Herstellung von Targets nicht<br />

möglich. Die sintertechnische Herstellung von MgAl2-Targets war nicht zielführend, da<br />

keinerlei Erfahrungen seitens potenzieller Targethersteller vorlagen und keine Garantien<br />

bezüglich der Targetform gegeben werden konnten. Bei der Herstellung von gepfropften<br />

Target (Mg-Pfropfen in Al-Target) kam es, sowohl bei der Targetherstellung wie auch bei<br />

der Abscheidung des Schichtsystems, zu nicht tolerierbaren Stöchiometrieverschiebungen.<br />

Ebenfalls ist bei der Verwendung von reinen Al- und Mg-Targets die Abscheidung des<br />

MgAl2-Verhältnisses nicht gewährleistet. Die nichtreaktive Abscheidung von MgAl2O4-<br />

Schicht aus keramischen Targets erbrachte gute Ergebnisse. Die abgeschiedenen Schichten<br />

waren aber den kristallinen ZrO2- und Al2O3-Schichten in ihrer Performance deutlich<br />

unterlegen. Daher wurde eine weitere Entwicklung der MgAl2O4-Schichten als nicht<br />

zielführend betrachtet und zugunsten der kristallinen ZrO2- und Al2O3-Schichten<br />

eingestellt. Im folgenden wird die Entwicklung dieser Schichten detailliert dargestellt.

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